罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司M·R·加丁斯基获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司申请的专利用于化学机械抛光的垫获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116967931B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310436280.X，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权用于化学机械抛光的垫是由M·R·加丁斯基;J·索;D·M·奥尔登设计研发完成，并于2023-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于化学机械抛光的垫在说明书摘要公布了：一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫，其包含：包含具有软相和硬相的聚脲的抛光层，该软相为脂肪族无氟物质和氟化脂肪族物质的共聚物，该聚脲用固化试剂进行固化，其中该硬相包含结晶度，其中该聚脲由如通过动态扫描量热法对该聚脲所确定的至少230℃的熔点和至少3焦耳克的ΔHf表征。
本发明授权用于化学机械抛光的垫在权利要求书中公布了：1.一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫，其包含： 包含具有软相和硬相的聚脲的抛光层，所述软相为脂肪族无氟物质和氟化脂肪族物质的共聚物，所述聚脲用固化试剂进行固化，其中所述硬相包含结晶度，其中所述聚脲由如通过动态扫描量热法对所述聚脲所确定的至少230℃的熔点和至少3焦耳克的ΔHf表征。
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