厦门思坦集成科技有限公司张文伟获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门思坦集成科技有限公司申请的专利一种刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223712705U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422717530.X，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型一种刻蚀设备是由张文伟;吴永波设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种刻蚀设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种刻蚀设备，涉及半导体加工技术领域。刻蚀设备包括真空室、等离子体发生机构、工件架和磁性组件；真空室包括工艺腔体，真空室还包括第一端和第二端；等离子体发生机构设置于真空室的外侧，并靠近第一端设置，等离子体发生机构用于在工艺腔体中激发等离子体；工件架设置于真空室内，并靠近第二端设置；磁性组件包括多个磁性件，多个磁性件彼此相交设置，多个磁性件的中心轴均重合，磁性组件转动设置于真空室背离工艺腔体的一侧，并位于工件架背离等离子体发生机构的一侧，磁性组件用于在工艺腔体中形成平行于工件架的平面磁场。本申请提供的刻蚀设备，可提升刻蚀均匀性。
本实用新型一种刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括： 真空室，包括工艺腔体，所述真空室还包括第一端和第二端； 等离子体发生机构，设置于所述真空室的外侧，并靠近所述第一端设置，所述等离子体发生机构用于在所述工艺腔体中激发等离子体； 工件架，设置于所述真空室内，并靠近所述第二端设置； 磁性组件，包括多个磁性件，所述多个磁性件彼此相交设置，所述多个磁性件的中心轴均重合，所述磁性组件转动设置于所述真空室背离所述工艺腔体的一侧，并位于所述工件架背离所述等离子体发生机构的一侧，所述磁性组件用于在所述工艺腔体中形成平行于所述工件架的平面磁场。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人厦门思坦集成科技有限公司，其通讯地址为：361000 福建省厦门市厦门火炬高新区石墨烯新材料产业园五显路866-1号101A室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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