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成都沃特塞恩电子技术有限公司刘文科获国家专利权

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龙图腾网获悉成都沃特塞恩电子技术有限公司申请的专利微波等离子体化学气相沉积设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223705738U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520228464.1,技术领域涉及:C23C16/511;该实用新型微波等离子体化学气相沉积设备是由刘文科;李俊宏;胡宗义设计研发完成,并于2025-02-13向国家知识产权局提交的专利申请。

微波等离子体化学气相沉积设备在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种微波等离子体化学气相沉积设备,属于微波技术领域。上述沉积设备包括机架、腔体、样品台及升降驱动装置,机架包括放电腔底板。腔体的底部与放电腔底板的上部连接,并围合形成放电腔。样品台设置在放电腔内,样品台的底部设置有升降杆,放电腔底板上设置有安装孔,升降杆可滑动地穿过安装孔。升降驱动装置与升降杆的底部连接,用于驱动升降杆带动样品台上下移动。通过将样品台上下移动一定距离,能够改善电磁场分布情况,使得等离子球更加扁平,进而能够使得镀膜厚度更加均匀,提高镀膜质量。

本实用新型微波等离子体化学气相沉积设备在权利要求书中公布了:1.一种微波等离子体化学气相沉积设备,其特征在于,包括: 机架,所述机架包括放电腔底板; 腔体,所述腔体的底部与所述放电腔底板的上部连接,并围合形成放电腔; 样品台,所述样品台设置在所述放电腔内,所述样品台的底部设置有升降杆,所述放电腔底板上设置有安装孔,所述升降杆可滑动地穿过所述安装孔; 升降驱动装置,所述升降驱动装置与所述升降杆的底部连接,用于驱动所述升降杆带动所述样品台上下移动。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人成都沃特塞恩电子技术有限公司,其通讯地址为:610000 四川省成都市高新区益州大道中段1800号3栋3层301号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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