正泰新能科技股份有限公司金童获国家专利权
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龙图腾网获悉正泰新能科技股份有限公司申请的专利一种封闭式晶振片清洁的真空蒸镀装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223705706U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520215542.4,技术领域涉及:C23C14/24;该实用新型一种封闭式晶振片清洁的真空蒸镀装置是由金童;汪勇;李晓伟;王树茂;李子佳设计研发完成,并于2025-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种封闭式晶振片清洁的真空蒸镀装置在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种封闭式晶振片清洁的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置包括工艺腔,以及与工艺腔相互连通的缓冲腔;工艺腔中设有第一晶振测试仪,用于检测工艺腔中镀制膜层的厚度;缓冲腔中设有第二晶振测试仪和清洗装置,第二晶振测试仪用于与下限寿命的第一晶振测试仪进行更换,清洗装置用于对下限寿命的第一晶振测试仪进行清洁。本实用新型在较低的设备成本增幅下,实现了工艺腔不破真空即可实现晶振片清洗的目的,避免了空气对靶材和镀制膜层的污染,提高了靶材利用率和镀膜速率,延长了晶振片的使用寿命,减少了因晶振片寿命消耗工艺腔体开腔导致的维护保养频率,生产节拍大大增加,显著降低了晶振片的使用成本,实现了可重复利用。
本实用新型一种封闭式晶振片清洁的真空蒸镀装置在权利要求书中公布了:1.一种封闭式晶振片清洁的真空蒸镀装置,其特征在于,所述真空蒸镀装置包括工艺腔,以及与所述工艺腔相互连通的缓冲腔; 所述工艺腔中设有第一晶振测试仪,用于检测工艺腔中镀制膜层的厚度; 所述缓冲腔中设有第二晶振测试仪和清洗装置,所述第二晶振测试仪用于与下限寿命的第一晶振测试仪进行更换,所述清洗装置用于对下限寿命的第一晶振测试仪进行清洁。
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