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龙图腾网获悉安力科技(苏州)有限公司申请的专利一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120985515B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511532041.X，技术领域涉及：B24B37/005；该发明授权一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统是由董强;曹引;钱志浩设计研发完成，并于2025-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统，具体涉及碳化硅加工技术领域，包括碳化硅抛光液中央控制模块、碳化硅抛光液参数检测模块、碳化硅抛光液初级调控模块、碳化硅抛光液次级调控模块以及碳化硅抛光液调控优化模块；所述碳化硅抛光液中央控制模块用于接收参数检测模块的采集数据，生成初级调控指令和次级调控指令，同时驱动优化模块进行参数优化；本发明采用初级调控和次级调控相结合的两级递进调控机制，初级调控主要针对抛光液的基础特性参数进行调节，以补偿基础特性偏差；次级调控则结合抛光效果反馈，对工艺适配参数进行调节，以修正工艺适配偏差，提高了调控的精度和效率。

本发明授权一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统在权利要求书中公布了：1.一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统，其特征在于：包括： 碳化硅抛光液中央控制模块：用于接收参数检测模块的采集数据，生成初级调控指令和次级调控指令，同时驱动优化模块进行参数优化，并存储碳化硅抛光液调控过程中产生的数据，构建碳化硅抛光液中央控制数据库； 碳化硅抛光液参数检测模块：用于实时采集抛光液的基础特性参数、工艺状态参数及抛光效果参数，构建碳化硅抛光液检测数据集，并传输至碳化硅抛光液初级调控模块和碳化硅抛光液次级调控模块； 碳化硅抛光液初级调控模块：对碳化硅抛光液检测数据集中抛光液的基础特性参数进行允许区间范围判断，根据判断异常结果计算各参数与标准值的偏差，根据偏差进行调控，并对调控结果进行评估，将调控评估合格结果传输至碳化硅抛光液次级调控模块； 所述碳化硅抛光液初级调控模块中根据偏差进行调控：首先基于判断异常结果，计算第i个参数与相应标准值的偏差Δxi，Δxi=xi-xi，std，xi和xi，std分别为第i个参数归一化后的采集值和标准值，若只存在一个参数存在偏差，则直接对次参数进行初级PID调控，若存在至少两个参数存在偏差，则根据偏差Δxi的大小进行排序进行初级PID调控；然后对第i个参数进行相应组件的初级PID调控，得到第i个参数的调节量Uit，，t为参数采样周期，Ki,p、Ki,j和Ki,d和分别为第i个参数的比例系数、积分系数和微分系数； 碳化硅抛光液次级调控模块：基于初级调控评估合格结果，在碳化硅抛光液检测数据集中，对抛光效果参数进行允许区间范围判断，根据判断异常结果计算各参数与标准值的偏差，根据偏差对工艺状态参数进行调控并对调控结果进行评估，根据异常评估结果进行反馈，得到碳化硅抛光液次级调控合格结果； 碳化硅抛光液调控优化模块：基于碳化硅抛光液调控过程中产生的参数，通过优化算法生成调控参数优化方案，反馈至中央控制模块。

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