无锡尚积半导体科技股份有限公司丁聪获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡尚积半导体科技股份有限公司申请的专利基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120967313B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511512903.2,技术领域涉及:C23C14/35;该发明授权基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置是由丁聪;张陈斌;葛青涛;欧阳军晨;宋永辉;王世宽设计研发完成,并于2025-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置,包括限位机构、安装块、连杆、连桥、第一旋转驱动机构和第二旋转驱动机构,限位机构包括交叉设置的第一轨道和第二轨道,连桥可转动地设置在轨道的交点处,连桥上设有滑槽,安装块滑动设置于滑槽中;第一旋转驱动机构用于驱使连桥绕交点旋转,通过连桥带动安装块旋转,结合连杆在第一轨道和第二轨道中的滑动约束以及安装块在滑槽中的滑动约束,安装块及其上的磁铁能够沿椭圆轨迹运动,替代传统固定跑道状或单一圆形轨迹;第二旋转驱动机构驱使限位机构同步或间歇自转,可使椭圆轨迹落点发生周期性变化,从而打破单一椭圆轨迹的覆盖局限,扩大磁铁扫过的靶材区域。
本发明授权基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置在权利要求书中公布了:1.一种基于双轨道约束的磁控溅射磁铁变轨迹运动装置,其特征在于,包括: 限位机构,所述限位机构包括交叉设置的第一轨道11和第二轨道12; 安装块21,用于设置磁铁; 连杆22,与所述安装块21相连,所述安装块21设于所述连杆22的中部,所述连杆22的一端滑动设置于所述第一轨道11中、另一端滑动设置于所述第二轨道12中; 连桥23,可转动地设置在所述第一轨道11和所述第二轨道12的交点处,所述连桥23上设有轴向延伸的滑槽23a,所述安装块21滑动设置于所述滑槽23a中; 第一旋转驱动机构,用于驱使所述连桥23绕所述交点旋转,通过所述连桥23带动所述安装块21旋转,结合所述连杆22在所述第一轨道11和所述第二轨道12中的滑动约束以及所述安装块21在所述滑槽23a中的滑动约束,所述安装块21及其上的磁铁能够沿椭圆轨迹运动; 第二旋转驱动机构,所述第二旋转驱动机构用于驱使所述限位机构绕所述交点自转; 在所述第一旋转驱动机构驱使所述安装块21做椭圆运动的同时,所述第二旋转驱动机构能够驱动所述限位机构同步或间歇地旋转,以使所述安装块21的椭圆轨迹落点产生周期性变化,从而扩大磁铁扫过的靶材区域; 所述连桥23悬设于所述限位机构上方,所述第一旋转驱动机构包括: 旋转驱动件31,设于所述连桥23上; 锥齿轮32,与所述旋转驱动件31的输出端相连; 联动齿轮33,与锥齿轮32啮合,并与所述连桥23相连、设于所述交点的正上方,用于带动所述连桥23旋转。
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