细美事有限公司金东勋获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和用于处理基板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115394624B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210571132.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法是由金东勋;朴玩哉;朴志焄;金杜里设计研发完成，并于2022-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。基板处理装置包括：腔室，其具有内部空间；等离子体源，其配置为施加电场；第一气体供应单元，其配置为将第一工艺气体供应至等离子体源将电场施加到的区域，当第一工艺气体在第一压力气氛下施加有第一强度的电场时，第一工艺气体被激发成等离子体；支承单元，其设置在内部空间中且配置为支承待处理的基板；和无电极灯，其设置在内部空间中、在基板的上方，并且其中无电极灯包括：电场传输壳体，在该电场传输壳体中具有放电空间；和放电材料，其包括发光材料且填充放电空间，壳体的放电空间被加压至第二压力，并且放电材料当在第二压力下施加有比第一强度高的第二强度的电场时放电并发光。
本发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括： 腔室，所述腔室具有内部空间； 等离子体源，所述等离子体源配置为施加电场； 第一气体供应单元，所述第一气体供应单元配置为将第一工艺气体供应至所述等离子体源将所述电场施加到的区域，当所述第一工艺气体在第一压力气氛下施加有第一强度的电场时，所述第一工艺气体被激发成等离子体； 支承单元，所述支承单元设置在所述内部空间中、且配置为支承待处理的基板；以及 无电极灯，所述无电极灯设置在所述内部空间中、在所述基板的上方，并且 其中，所述无电极灯包括： 电场传输壳体，在所述电场传输壳体中具有放电空间；以及 放电材料，所述放电材料包括发光材料且填充所述放电空间，所述壳体的所述放电空间被加压至第二压力，并且所述放电材料当在第二压力下施加有第二强度的电场时放电且发光，所述第二强度比第一强度更高。
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