无锡先为科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡先为科技有限公司申请的专利一种成膜装置及半导体处理设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223693082U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423318280.9,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型一种成膜装置及半导体处理设备是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种成膜装置及半导体处理设备在说明书摘要公布了:本申请公开了成膜装置及半导体处理设备,属于半导体技术领域。成膜装置,包括:处理室、基座、进气组件及多个载台,处理室包括底壁、顶壁及侧壁,顶壁、底壁与侧壁共同围成有反应腔;基座设置于反应腔内,并与底壁或顶壁连接;进气组件包括进气主体,进气主体设置于侧壁上,且具有一个进气方向,进气主体能沿进气方向将外部气体引入反应腔内,进气方向平行于基座;多个载台设置于基座上,多个载台沿第一方向间隔排布,第一方向与进气方向相交,在以进气方向为投影方向的任一投影面上,每一载台的投影不相交。通过设置多个载台的排布方式,以使得多个衬底在反应腔内的气流场中气流环境趋于一致,提高多衬底的处理效率及反应均匀性。
本实用新型一种成膜装置及半导体处理设备在权利要求书中公布了:1.一种成膜装置,其特征在于,包括: 处理室10,具有反应腔100,所述处理室10包括底壁101、与所述底壁101相对的顶壁102及侧壁103,所述顶壁102、所述底壁101与所述侧壁103共同围成有所述反应腔100; 基座20,设置于所述反应腔100内,并与所述底壁101或所述顶壁102连接; 进气组件30,包括进气主体300,所述进气主体300设置于所述侧壁103上,且具有一个进气方向X,所述进气主体300能沿所述进气方向X将外部气体引入所述反应腔100内,所述进气方向X平行于所述基座20; 多个载台40,设置于所述基座20上,多个所述载台40沿第一方向Y间隔排布,所述第一方向Y与所述进气方向X相交,在以所述进气方向X为投影方向的任一投影面上,每一所述载台40的投影不相交。
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