武汉长盈通光电技术股份有限公司骆志军获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉长盈通光电技术股份有限公司申请的专利光纤式投影曝光光刻装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223692642U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520176521.6，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型光纤式投影曝光光刻装置是由骆志军;廉正刚;皮亚斌设计研发完成，并于2025-01-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本光纤式投影曝光光刻装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种光纤式投影曝光光刻装置，包括依光束路径布置的光源系统，准直扩束器、掩膜版和工作台；准直扩束器，用于将入射光束直径扩大或缩小至一定倍数，输入端发散角微调结构，在调试准直后可固定，保证输出光斑的准直及稳定，并将光导向掩膜版；掩膜版，用于镂刻加工图像，当光通过时形成加工图像；投影物镜，用于将掩膜版上的图像光束按比例缩小，映射到涂覆了光刻胶的硅片；在光源系统中设有匀化光纤，用于使入射的激光光束的能量在水平面上分布均匀。本实用新型省略大量的反射镜和透镜元件，减少光束受灰尘影响和受设备精度影响的几率，提高光束质量。由于零部件的大量减少，能够提供均匀稳定可靠的光刻曝光用激光光源。
本实用新型光纤式投影曝光光刻装置在权利要求书中公布了：1.一种光纤式投影曝光光刻装置，其特征是：包括依光束路径布置的光源系统，准直扩束器7、掩膜版8和工作台11； 准直扩束器7，用于将入射光束直径扩大或缩小至一定倍数，输入端发散角微调结构，在调试准直后可固定，保证输出光斑的准直及稳定，并将光导向掩膜版8； 掩膜版8，用于镂刻加工图像，当光通过时形成加工图像； 投影物镜9，用于将掩膜版上的图像光束按比例缩小，映射到涂覆了光刻胶的硅片10； 工作台11用于承载并移动硅片10； 在光源系统中设有匀化光纤4，用于使入射的激光光束的能量在水平面上分布均匀。
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