株式会社TKSF小泉达也获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社TKSF申请的专利红外线截止滤光片、相机结构、红外线截止滤光片的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120457367B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202480006305.5，技术领域涉及：G02B5/22；该发明授权红外线截止滤光片、相机结构、红外线截止滤光片的制造方法是由小泉达也;长谷川大刀夫设计研发完成，并于2024-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本红外线截止滤光片、相机结构、红外线截止滤光片的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的用于数码相机的红外线截止滤光片1具备近红外线反射滤光片Fref1和红外线吸收膜滤光片Fab1，近红外线反射滤光片Fref1以由高折射率树脂形成的高折射率层Hind和由低折射率树脂形成的低折射率层Lind交替地层叠的方式构成，红外线吸收膜滤光片Fab1由含有色素的透光性树脂或涂布有色素的透光性树脂构成。由此，提供一种重影炫光、着色等画质劣化被抑制且量产效率被飞跃性地提高了的红外线截止滤光片。
本发明授权红外线截止滤光片、相机结构、红外线截止滤光片的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种红外线截止滤光片，其特征在于，用于数码相机，所述红外线截止滤光片具备： 近红外线反射滤光片，其以由高折射率树脂形成的高折射率层和由低折射率树脂形成的低折射率层交替地层叠的方式构成； 红外线吸收膜滤光片，其由含有色素的透光性树脂或涂布有色素的透光性树脂构成；以及 防反射部，其形成在所述近红外线反射滤光片和或所述红外线吸收膜滤光片的与空气接触的表面， 所述近红外线反射滤光片的所述高折射率层和所述低折射率层的合计层数为200以上， 在所述近红外线反射滤光片单体中，在将伴随着入射光的波长增大而光的透射率减少成50%的波长定义为反射膜截止波长时，入射光的入射角为0°的情况下的所述反射膜截止波长在750nm～880nm的范围内， 所述红外线吸收膜滤光片在685nm至800nm的波长范围中透射率为2%以下， 所述防反射部是在透光性树脂的表面形成有凹凸的结构。
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