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龙图腾网获悉湖南鼎一致远科技发展股份有限公司;湖南鼎一智造数字设备科技发展有限公司申请的专利一种热裱保护碳带及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120003181B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510159852.3，技术领域涉及：B41M5/41；该发明授权一种热裱保护碳带及其制备方法与应用是由虞雷;莫斌;李辉;嵇高晶;文添俊;龙雪怡;徐志刚;唐国初设计研发完成，并于2025-02-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种热裱保护碳带及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种热裱保护碳带及其制备方法与应用，所述热裱保护碳带包括依次叠合设置的背涂层、基膜层、离型层和保护层；所述基膜层的厚度为4‑130μm；所述离型层的涂布厚度为0.5‑20μm；所述保护层的涂布厚度为0.5‑20μm；所述背涂层的涂布厚度为0.4‑1.2μm。该热裱保护碳带适用于热裱工艺且具有高耐候性和高光泽度的保护碳带，其在热裱覆膜后展现出较覆膜前更高的光度性能，并且较热转印保护碳带的耐候性更佳；该热裱保护碳带的厚度较热转印保护碳带的厚度更厚，故其能够抵挡极端恶劣自然环境的侵蚀。

本发明授权一种热裱保护碳带及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种热裱保护碳带，其特征在于，包括依次叠合设置的背涂层、基膜层、离型层和保护层； 所述基膜层的厚度为4-130μm； 所述离型层的涂布厚度为0.5-20μm； 所述保护层的涂布厚度为0.5-20μm； 所述背涂层的涂布厚度为0.4-1.2μm; 所述基膜层涂布背涂层一侧的表面在涂布前需进行表面处理至达因值＞38; 所述离型层的制备方法是将第一树脂、蜡粉和无机颗粒分散在第一溶剂中，并进行研磨即得到离型涂布液，将离型涂布液涂布在基膜层表面并加热烘干即得到离型层; 所述第一树脂为丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物树脂、聚苯乙烯树脂、聚碳酸酯树脂或聚甲基丙烯酸甲酯类树脂； 所述第一树脂的Tg值为80-150℃，分子量为200000-500000； 所述保护层的制备方法是：将第二树脂溶于第二溶剂中，然后加入第一辅料，混匀即得到保护层涂料，将保护层涂料涂布在离型层表面并烘干固化即得到保护层； 所述第一辅料包括助剂、光稳定剂; 所述第二树脂为丙烯酸树脂类、氯乙烯-醋酸乙烯酯类、氯乙烯-乙烯基异丁基醚类、聚氨酯类和乙烯-醋酸乙烯酯类中的至少一种； 所述第二树脂的分子量为5000-300000，Tg值为40-120℃； 所述背涂层的制备方法是：将第三树脂溶解在第三溶剂中，在然后加入第二辅料，混匀即得到背涂层涂料，将背涂层涂料涂布在基膜层表面并烘干固化即得到背涂层； 所述第二辅料包括异氰酸酯化合物、无机填料和脱模剂。

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