武汉理工大学章嵩获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119876918B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411967039.0，技术领域涉及：C23C16/52；该发明授权一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法是由章嵩;黄炜;吉柏锋;涂溶;张联盟设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法，属于涂层制备技术领域。本发明首先建立无涂层和预计涂层厚度的三维化学气相沉积模型，分析因涂层的生长而导致的基板表面沉积速率的变化，然后通过流体力学仿真调控沉积条件，实现沉积过程的动态补偿调控，使得超厚涂层在生长过程中的表面沉积速率维持相对稳定，可有效解决现有流体力学仿真无法适配超厚涂层生长后期腔室几何分布与初始条件偏差较大的问题，可适应多种化学气相沉积方法制备不同的超厚涂层的调控过程，尤其适配多基板的批量生产的情况，极大节省实验试错时间和经济成本，提高超厚涂层的生长设计效率，具有重要的应用前景。
本发明授权一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法在权利要求书中公布了：1.一种动态补偿优化化学气相沉积制备超厚涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤： 1通过化学气相沉积装备分别建立无涂层厚度和预计沉积的涂层厚度的简化三维模型； 2对步骤1生成的简化三维模型分别进行网格划分，生成网格文件； 3将步骤2所得网格文件导入计算流体力学的仿真求解软件中，设定物理模型，随后设置相应的边界条件，然后进行迭代求解，分别得到无涂层厚度和具有预计涂层厚度时的沉积速率； 4对比分析步骤3所得无涂层厚度和具有预计涂层厚度时的沉积速率变化情况，通过修正具有预计涂层厚度的边界条件使得具有预计涂层厚度模型的表面沉积速率接近无涂层厚度的仿真结果； 5在超厚涂层的实际沉积中，以无涂层厚度时的边界条件为初始参数，以步骤4所得修正后具有预计涂层厚度的边界条件为终点参数，随着涂层厚度的增加将沉积的边界条件参数从初始参数以线性变化的方式调整至终点参数，实现超厚涂层的动态补偿沉积。
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