湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司罗乙杰获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司申请的专利抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119772780B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411803950.8，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法是由罗乙杰;毛丽华;黄云鹏;高越设计研发完成，并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种抛光层，所述抛光层包含由5～100μm大小孔隙分隔连续的聚氨酯基材而形成的闭孔弹性体，所述聚氨酯基材包含经由异氰酸酯封端的预聚物与固化剂的反应产物；所述抛光层包含抛光表面，在抛光表面上方距离为h处自由释放质量为m、直径为L的球体，球体接触抛光表面时到金属球向上反弹至线速度等于0时刻的金属球底部到抛光表面的高度为h1，当h介于490mm～520mm之间，球体的质量m介于15g～19g之间，球体的直径L介于15mm～17mm时，其中，损失高度h2＝h‑h1‑L，所述损失高度h2介于280mm～440mm之间；控制抛光层在上述范围内，制备出的抛光垫表现出良好的抛光性能，包括较高的TEOS去除速率，较低的研磨速率不均一性以及较少的Defect，综合性能优异。
本发明授权抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光层，所述抛光层包含由5~100μm大小孔隙分隔连续的聚氨酯基材而形成的闭孔弹性体，所述聚氨酯基材包含经由异氰酸酯封端的预聚物与固化剂的反应产物；所述抛光层包含抛光表面，在抛光表面上方距离为h处自由释放质量为m、直径为L的球体，球体接触抛光表面时到金属球向上反弹至线速度等于0时刻的金属球底部到抛光表面的高度为h1，当h介于490mm~520mm之间，球体的质量m介于15g~19g之间，球体的直径L介于15mm~17mm时，其中，损失高度h2=h-h1-L，所述损失高度h2介于280mm~440mm之间。
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