深圳晶源信息技术有限公司王成瑾获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利用于训练光刻胶模型的训练样本生成方法、装置及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119445278B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411437860.1，技术领域涉及：G06V10/774；该发明授权用于训练光刻胶模型的训练样本生成方法、装置及设备是由王成瑾;张生睿设计研发完成，并于2024-10-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于训练光刻胶模型的训练样本生成方法、装置及设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种用于训练光刻胶模型的训练样本生成方法、装置及设备。方法包括：获取第一训练样本，第一训练样本包括第一掩模图形及其对应的第一光刻胶标签图形；将第一训练样本输入光刻胶模型，得到第一掩模图形中的缺陷区域，缺陷区域为根据光刻胶模型预测得到的光刻胶图形与第一光刻胶标签图形之间的差异大于预设差异阈值的区域；根据缺陷区域，在第一掩模版图中确定缺陷区域对应的目标版图区域；根据目标版图区域以及第一光刻胶标签图形，生成用于训练光刻胶模型的第二训练样本。本申请实施例中，通过获取光刻胶图形获取模型训练效果较差的掩模版图，并通过该掩模版图，得到更多的训练样本，从而提升模型的训练效果。
本发明授权用于训练光刻胶模型的训练样本生成方法、装置及设备在权利要求书中公布了：1.一种用于训练光刻胶模型的训练样本生成方法，其特征在于，包括： 获取第一训练样本，所述第一训练样本包括第一掩模图形及其对应的第一光刻胶标签图形，所述第一掩模图形为对第一掩模版图进行采样得到的图形，所述第一光刻胶标签图形为通过光学邻近效应修正模型对所述第一掩模版图进行修正得到的光刻胶图形； 将所述第一训练样本输入光刻胶模型，得到第一掩模图形中的缺陷区域，所述缺陷区域为根据所述光刻胶模型预测得到的光刻胶图形与所述第一光刻胶标签图形之间的差异大于预设差异阈值的区域； 根据所述缺陷区域，在所述第一掩模版图中确定所述缺陷区域对应的目标版图区域； 根据所述目标版图区域以及所述第一光刻胶标签图形，生成用于训练光刻胶模型的第二训练样本。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳晶源信息技术有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉街8号英达利科技数码园C栋401A；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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