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龙图腾网获悉深圳市华汉伟业科技有限公司申请的专利基于结构光和结构光成像设备的三维成像方法、存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119338977B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411212484.6，技术领域涉及：G06T17/00；该发明授权基于结构光和结构光成像设备的三维成像方法、存储介质是由黄涛;黄淦;杨洋;翟爱亭设计研发完成，并于2024-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于结构光和结构光成像设备的三维成像方法、存储介质在说明书摘要公布了：基于结构光和结构光成像设备的三维成像方法、存储介质，其中三维成像方法包括：获取以偏振方向不同、入射角度相同的两种偏振光进行结构光投影时拍摄的被成像物体的第一偏振结构光图像和第二偏振结构光图像，分别利用它们进行三维重建，得到第一高度图像和第二高度图像；根据第一偏振结构光图像和第二偏振结构光图像计算得到反射率差异图；根据反射率差异图判断每个像素位置所对应的被成像物体的表面是否存在多重反射，若是，则将该像素位置的高度值设为无效像素值，若否，则根据第一高度图像和第二高度图像在该像素位置处的高度值确定该像素位置最终的高度值，从而减弱了物体表面多重反射对重建精度和完整性的影响。

本发明授权基于结构光和结构光成像设备的三维成像方法、存储介质在权利要求书中公布了：1.一种基于结构光的三维成像方法，其特征在于，包括： 获取被成像物体的第一偏振结构光图像和第二偏振结构光图像；其中，所述第一偏振结构光图像为采用第一偏振光对所述被成像物体进行结构光投影时对所述被成像物体拍摄的图像，所述第二偏振结构光图像为采用第二偏振光对所述被成像物体进行结构光投影时对所述被成像物体拍摄的图像，所述第一偏振光和所述第二偏振光的偏振方向不同，且所述第一偏振光和所述第二偏振光以相同的入射角度入射至所述被成像物体表面； 利用所述第一偏振结构光图像进行三维重建，得到所述被成像物体的第一高度图像；利用所述第二偏振结构光图像进行三维重建，得到所述被成像物体的第二高度图像； 根据所述第一偏振结构光图像和所述第二偏振结构光图像计算得到反射率差异图，所述反射率差异图每个像素位置的像素值表示该像素位置的反射率差异程度，所述反射率差异程度表示该像素位置所对应的被成像物体的表面对所述第一偏振光的反射率和对所述第二偏振光的反射率的差异程度； 根据所述反射率差异图判断每个像素位置所对应的被成像物体的表面是否存在多重反射，若是，则将该像素位置的高度值设为无效像素值，若否，则根据所述第一高度图像和所述第二高度图像在该像素位置处的高度值确定该像素位置最终的高度值，以得到所述被成像物体最终的高度图像。

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