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龙图腾网获悉广州市香港科大霍英东研究院;香港科技大学(广州)申请的专利掩模版校正方法、装置、计算机设备及可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118781028B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411005241.5，技术领域涉及：G06T5/80；该发明授权掩模版校正方法、装置、计算机设备及可读存储介质是由梁潇潇;马宇哲设计研发完成，并于2024-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模版校正方法、装置、计算机设备及可读存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种掩模版校正方法、装置、计算机设备及可读存储介质，方法包括：获取待校正的掩模版对应的图案结构图像；将图案结构图像划分得到多个图像片段，并基于每个图像片段的片段特征和图像片段之间的共同特征生成待分析结构图；将待分析结构图输入目标模型，目标模型基于待分析结构图中片段特征和共同特征进行分类，得到每个图像片段对应的多个校正决策标签，每个校正决策标签包含校正偏移量和对应的概率值；针对每个图像片段，基于图像片段对应的每个校正决策标签中的概率值，选取图像片段的目标校正偏移量；根据每个图像片段的目标校正偏移量，对掩模版进行校正，得到目标掩模版。以此，能够提高掩模版校正的效率和准确性。

本发明授权掩模版校正方法、装置、计算机设备及可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种掩模版校正方法，其特征在于，所述方法包括： 获取待校正的掩模版对应的图案结构图像； 将所述图案结构图像划分得到多个图像片段，并基于每个图像片段的片段特征和多个图像片段之间的共同特征生成待分析结构图； 将所述待分析结构图输入目标模型，所述目标模型基于所述待分析结构图中所述片段特征和所述共同特征进行分类，得到每个图像片段对应的多个校正决策标签，每个校正决策标签包含校正偏移量和对应的概率值； 其中，所述目标模型由预设模型基于样本待分析结构图与调整后的样本目标图像进行修正指标最大化学习得到；所述修正指标由所述样本待分析结构图对应的第一边缘放置误差和第一工艺变化带宽，以及所述样本目标图像对应的第二边缘放置误差和第二工艺变化带宽确定；所述样本目标图像由所述样本待分析结构图按照所述预设模型输出的多个样本校正决策标签的指示进行调整得到； 针对每个图像片段，基于所述图像片段对应的每个校正决策标签中的概率值，选取所述图像片段的目标校正偏移量； 根据每个图像片段的目标校正偏移量，对所述掩模版进行校正，得到目标掩模版。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州市香港科大霍英东研究院;香港科技大学(广州)，其通讯地址为：511458 广东省广州市南沙区南沙资讯科技园科技楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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