恩维世科斯有限公司T·斯美顿获国家专利权
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龙图腾网获悉恩维世科斯有限公司申请的专利光控膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117647857B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311116735.6，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权光控膜是由T·斯美顿;Y·夏设计研发完成，并于2023-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本光控膜在说明书摘要公布了：一种制造光控膜的方法。该方法包括提供多个交替层透明材料和光吸收材料。每层光吸收材料散布在相应层透明材料之间。多个交替层透明材料和光吸收材料沿堆叠方向堆叠。堆叠方向垂直于多个交替层中至少一层的表面平面。该方法还包括用直刃在第一切割平面和第二切割平面中切割穿过多个交替层透明材料和光吸收材料，从而产生包括平行于第一切割平面的第一切割表面和平行于第二切割平面的第二切割表面的中间膜。第一和第二切割平面中的每个定向成与堆叠方向成小于或等于90°的角度。该方法还包括使用具有重复棱镜结构的工具在中间膜的第一切割表面上热压印重复棱镜结构，从而产生锯齿状波纹状第一表面。
本发明授权光控膜在权利要求书中公布了：1.一种制造光控膜的方法，该方法包括： 提供多个交替层透明材料和光吸收材料，其中交替层透明材料和光吸收材料在堆叠方向上堆叠； 用直刃在第一切割平面和第二切割平面中切割穿过多个交替层透明材料和光吸收材料，从而产生包括平行于第一切割平面的第一切割表面和平行于第二切割平面的第二切割表面的中间膜，其中第一和第二切割平面中的每个定向为与堆叠方向成小于90°的角度；以及 使用具有重复棱镜结构的工具在中间膜的第一切割表面上热压印重复棱镜结构，从而产生锯齿状第一表面。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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