桂林电子科技大学郑君健获国家专利权
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龙图腾网获悉桂林电子科技大学申请的专利一种阴极复合膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117209020B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311361989.4，技术领域涉及：C02F1/461；该发明授权一种阴极复合膜及其制备方法和应用是由郑君健;范文文;蒋敏敏;张媛媛;韦巧艳;魏嘉琪;马金星;张星冉;张学洪;王志伟设计研发完成，并于2023-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种阴极复合膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种阴极复合膜及其制备方法和应用，涉及水处理技术领域。本发明提供了一种阴极复合膜，包括基底膜以及负载在所述基底膜表面的酸化后的碳纳米管；所述酸化后的碳纳米管的表面负载有三斜型FeVO4和Pd0。本发明选择CNTs作为阴极催化剂载体，同时加入FeVO4和Pd0催化剂，将该复合膜应用于连续流体系，显著增强了目标污染物与电极表面的活性位点的传递，提高了CPs的去除速率；同时克服了传质受限、催化剂难以回收的问题。
本发明授权一种阴极复合膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种阴极复合膜，其特征在于，包括基底膜以及负载在所述基底膜表面的酸化后的碳纳米管；所述酸化后的碳纳米管的表面负载有三斜型FeVO4和Pd0； 以所述酸化后的碳纳米管、三斜型FeVO4和Pd0的总质量为100％计，所述酸化后的碳纳米管的质量含量为20～30％，所述三斜型FeVO4的质量含量为20～35％，所述Pd0的质量含量为30～50％。
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