芯体素(杭州)科技发展有限公司蔡王灿获国家专利权
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龙图腾网获悉芯体素(杭州)科技发展有限公司申请的专利一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法和装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116766577B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310774626.7,技术领域涉及:B29C64/106;该发明授权一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法和装置是由蔡王灿;齐习猛;吴琪;曹航超设计研发完成,并于2023-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法和装置在说明书摘要公布了:本发明公开了一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法:1将打印材料通过3D打印方式,打印在基板上,得到微米级别的微透镜液滴阵列;2将打印后的基板反向倒置,倒置至液滴高度不再变化;3倒置的液滴进行固化,获得具有大高宽比的微透镜阵列。本发明还公开了制备大高宽比的微透镜阵列的装置。本发明通过倒置,让液滴在重力作用下,克服表面张力向下垂落回缩,达到重力和表面张力的平衡状态,提高了液滴高宽比。并且可以通过加热,大幅降低最短倒置时间,进一步提升液滴的高宽比。本发明方法无需复杂的材料处理,降低对材料粘度、表面张力、触变性等特性的要求,增加了打印材料的适用范围,大幅提高了微透镜阵列的均一性。
本发明授权一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法和装置在权利要求书中公布了:1.一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法,其特征在于 所述方法包括以下步骤: 1将打印材料通过3D打印方式,打印在基板上,得到微米级别的微透镜液滴阵列; 2将打印有微透镜液滴阵列的基板反向倒置,即微透镜液滴阵列在下,基板在上,倒置至液滴高度不再变化; 3对倒置的基板上的液滴进行固化,制得大高宽比的微透镜阵列; 所述微透镜液滴阵列或微透镜阵列包括若干在基板上阵列的结构为球面凸起或者近似球面凸起的微透镜单元; 所述步骤1中,微米级别的微透镜液滴阵列中的微透镜单元的高宽比为第一高宽比,步骤3得到的微透镜阵列中的微透镜单元的高宽比为第二高宽比,第二高宽比大于第一高宽比;所述步骤3得到的微透镜阵列中的微透镜单元的底面直径尺寸为1~100μm,高宽比为0.3~0.43; 所述步骤2中,倒置时加热至40~60℃,缩短倒置时间; 所述基板选自硅基板、二氧化硅基板、玻璃基板、蓝宝石基板中的任一种; 所述基板在打印前经过疏水处理,所述疏水处理是采用疏水涂料涂覆基板或将基板浸泡于疏水涂料中,然后烘干,制得疏水处理后的基板。
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