郑州大学沈永龙获国家专利权
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龙图腾网获悉郑州大学申请的专利一种Cu4O3薄膜及其制备方法、应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116657107B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310516927.X，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种Cu4O3薄膜及其制备方法、应用是由沈永龙;楚旭柯;张辰晗;李珍珍;邵国胜设计研发完成，并于2023-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种Cu4O3薄膜及其制备方法、应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种Cu4O3薄膜及其制备方法、应用，属于吸光材料技术领域。本发明的制备方法，包括以下步骤：以铜靶作为金属靶材，以O2作为反应气体进行射频反应磁控溅射在基底上沉积铜氧化物薄膜；射频反应磁控溅射过程中，控制靶材工作面对应的射频功率为xWcm2，反应气体体积流量占反应气体和工作气体总体积流量的比例为y％，其中3.74x‑0.98≤y≤9.09x‑9.29。本发明的制备方法，采用射频反应磁控溅射法通过对氧气流量以及射频功率的优选在较窄的氧气流量和射频功率窗口内制得了光电性能优异的窄带隙吸光材料‑Cu4O3薄膜，该方法具有操作安全、成本低廉、加工方便的优势。
本发明授权一种Cu4O3薄膜及其制备方法、应用在权利要求书中公布了：1.一种Cu4O3薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：以铜靶作为金属靶材，以O2作为反应气体进行射频反应磁控溅射在基底上沉积铜氧化物薄膜；射频反应磁控溅射过程中，控制靶材工作面对应的功率为1.75~1.76Wcm2，反应气体与工作气体的体积流量之比为2:30；或控制靶材工作面对应的功率为1.97~1.98Wcm2，反应气体与工作气体的流量之比为2.2~2.5:30；或控制靶材工作面对应的功率为2.63~2.64Wcm2，反应气体与工作气体的流量之比为3~3.5:30。
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