TES股份有限公司孙洪儁获国家专利权
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龙图腾网获悉TES股份有限公司申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115995376B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211277942.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板处理装置是由孙洪儁设计研发完成，并于2022-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基板处理装置，更详细来说涉及一种在利用等离子体对基板执行处理工艺、或者利用等离子体清洗腔室内部的情况下可补偿第一电极及腔室内部的热损失且进一步调节等离子体分布的基板处理装置。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括： 腔室，提供对基板的处理空间； 第一电极，配置在所述腔室的内侧； 绝缘部，配置在所述腔室且在所述腔室内支撑所述第一电极以将所述第一电极与所述腔室绝缘； 第二电极，与所述第一电极对向布置在所述腔室内侧，且所述基板安装在所述第二电极；以及 调节单元，配置在所述腔室的侧壁以对所述第一电极的边缘区域的温度及等离子体进行调节， 所述调节单元配置有布置在所述绝缘部的导体部以及配置在所述导体部的射频电极及加热器， 所述调节单元经配置以使所述加热器的阻抗比所述射频电极的阻抗大。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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