京东方科技集团股份有限公司李忠孝获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示器件及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115951514B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211527730.8,技术领域涉及:G02F1/1335;该发明授权显示器件及显示装置是由李忠孝设计研发完成,并于2022-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示器件及显示装置在说明书摘要公布了:本申请实施例提供了一种显示器件及显示装置。显示器件包括:第一基板;第二基板,形成容纳空间,包括显示区和相机区;黑色矩阵层,黑色矩阵层具有多个第一开口;第一面电极层;斜坡结构;第二面电极层,至少覆盖斜坡结构靠近第一基板的一侧;液态电介质层,包括多个遮光电离子;成像元件。本申请实施例通过将相机区与显示区均集成在显示器件上,有效简化了显示器件的体积和复杂程度。采用小孔成像的方式,减小相机间距,减小拍摄角度间隔;多个第一开口共同对应一个成像元件,利用分时或按需求的方法选择性开启第一开口,降低器件的生产制造成本;通过斜坡结构形成光波导光路设计,使得相机区与显示区整合,满足显示器件的轻薄化要求。
本发明授权显示器件及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示器件,其特征在于,包括: 第一基板; 第二基板,与所述第一基板相对设置,形成容纳空间,所述容纳空间包括显示区和相机区; 黑色矩阵层,位于所述第一基板靠近所述第二基板的一侧,且位于所述相机区,所述黑色矩阵层具有多个第一开口; 第一面电极层,位于所述黑色矩阵层靠近所述第二基板的一侧,且位于所述相机区; 斜坡结构,位于所述第二基板靠近所述第一基板的一侧,且位于所述相机区; 第二面电极层,至少覆盖所述斜坡结构靠近所述第一基板的一侧,且位于所述相机区; 液态电介质层,位于所述第一面电极层和所述第二面电极层之间,所述液态电介质层包括多个遮光电离子; 成像元件,位于所述第二基板远离所述第一基板的一侧,且位于所述相机区; 所述相机区包括多个成像单元,每个所述成像单元包括一个所述成像元件和多个所述第一开口,任意相邻两个所述成像元件之间间隔的所述第一开口的数量相等; 所述斜坡结构与所述第一开口一一对应,每个所述斜坡结构在所述第二基板上的正投影覆盖一个所述第一开口在所述第二基板上的正投影,每个所述成像元件在所述第二基板上的正投影覆盖一个所述第一开口在所述第二基板上的正投影; 所述第二面电极层包括反射电极和透光电极; 所述反射电极在所述第二基板上的正投影与所述成像元件在所述第二基板上的正投影至少部分重合,所述透光电极在所述第二基板上的正投影与所述成像元件在所述第二基板上的正投影相互间隔。
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