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龙图腾网获悉中国科学院空天信息创新研究院申请的专利基于先验点迹信息的无意干扰点迹剔除方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115902880B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211646011.8，技术领域涉及：G01S13/88；该发明授权基于先验点迹信息的无意干扰点迹剔除方法及装置是由罗运华;王潇怡;张舒豪;孙浩;徐开明设计研发完成，并于2022-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于先验点迹信息的无意干扰点迹剔除方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于先验点迹信息的无意干扰点迹剔除方法及装置，涉及雷达目标检测技术领域。该方法包括：步骤S1，获取同一场景下的多周期的点迹数据，生成点迹分布图；步骤S2，对所述点迹分布图进行栅格化处理，生成二维栅格图；步骤S3，沿所述二维栅格图的方位向，采用滑窗检测法判定干扰点迹的分布位置，生成二维掩膜；步骤S4，使用所述二维掩膜对所述二维栅格图进行掩膜处理，使用掩膜处理后的二维栅格图滤除所述干扰点迹，生成新的点迹图。本发明可以精确有效地屏蔽干扰点迹所在区域，而不会对目标的有效点迹造成干扰，从而大幅度降低干扰航迹的生成。

本发明授权基于先验点迹信息的无意干扰点迹剔除方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于先验点迹信息的无意干扰点迹剔除方法，其特征在于，包括： 步骤S1，获取同一场景下的多周期的点迹数据，生成点迹分布图； 步骤S2，对所述点迹分布图进行栅格化处理，生成二维栅格图； 步骤S3，沿所述二维栅格图的方位向，采用滑窗检测法判定干扰点迹的分布位置，生成二维掩膜； 步骤S4，使用所述二维掩膜对所述二维栅格图进行掩膜处理，使用掩膜处理后的二维栅格图滤除所述干扰点迹，生成新的点迹图； 所述步骤S3具体包括： 步骤S31，沿所述二维栅格图的方位向，通过滑窗检测法计算每个滑窗内存在干扰点迹的像元密度； 步骤S32，设置检测门限，判断每个滑窗内的所述像元密度是否大于所述检测门限，如果是，则该滑窗内的像元判定为地面环境无意干扰，将相应位置处的掩膜值置为0；否则将相应位置处的掩膜值置为1； 步骤S33，重复上述步骤S31~步骤S32，通过逐个距离门滑窗检测，生成所述二维掩膜； 在步骤S31，所述每个滑窗内存在干扰点迹的像元密度根据以下公式计算得出： 式中，N为预设的方位向滑窗长度；ρx,y为大小为N的滑窗内存在干扰点迹的像元密度；Ix,y是二维栅格图的二维矩阵，包含方位角度坐标x和距离坐标y； 所述二维掩膜以及所述掩膜处理后的二维栅格图根据以下公式计算得出： 式中，mask·表示二维掩膜，是与Ix,y同等大小的二维矩阵；为检测门限；为掩膜处理后的二维栅格图。

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