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龙图腾网获悉陕西科技大学申请的专利一种分子印迹比率荧光传感器及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115791725B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211486227.2，技术领域涉及：G01N21/64；该发明授权一种分子印迹比率荧光传感器及其制备方法和应用是由邵彦明;王鹏;郑蕊;赵芝镇;康萌仪;安军;郝彩凤设计研发完成，并于2022-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种分子印迹比率荧光传感器及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种分子印迹比率荧光传感器及其制备方法和应用，包括：对蓝色荧光碳量子点CQDs进行SiO2包覆，得到CQD@SiO2；在CQD@SiO2的表面包覆介孔二氧化硅，得到介孔二氧化硅纳米粒子；对介孔二氧化硅纳米粒子进行表面修饰，得到双键修饰的介孔二氧化硅纳米粒子；将模板分子、功能单体和有机荧光单体混合均匀，加入双键修饰的介孔二氧化硅载体、交联剂及引发剂，引发聚合反应，得到基于介孔二氧化硅的分子印迹荧光聚合物；去除模板分子，得到分子印迹比率荧光传感器；本发明中分子印迹比率荧光传感器的识别位点丰富，模板分子传质速率快，能够进行高效检测，且检测结果不受环境因素影响，并能够实现可视化检测的目的。

本发明授权一种分子印迹比率荧光传感器及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种分子印迹比率荧光传感器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、对蓝色荧光碳量子点CQDs进行SiO2包覆，得到CQD@SiO2； 步骤2、采用油-水两相包覆法，在所述CQD@SiO2的表面包覆介孔二氧化硅，得到介孔二氧化硅纳米粒子； 步骤3、对所述介孔二氧化硅纳米粒子进行表面修饰，得到双键修饰的介孔二氧化硅纳米粒子； 步骤4、将模板分子、功能单体和预合成的有机荧光单体混合均匀，然后加入所述双键修饰的介孔二氧化硅载体、交联剂及引发剂，引发聚合反应，得到基于介孔二氧化硅的分子印迹荧光聚合物； 步骤5、去除所述基于介孔二氧化硅的分子印迹荧光聚合物的模板分子，得到所述的分子印迹比率荧光传感器； 步骤2中，采用油-水两相包覆法，在所述CQD@SiO2的表面包覆介孔二氧化硅，得到介孔二氧化硅纳米粒子的过程，具体如下： 将所述CQD@SiO2、超纯水、十六烷基三甲基氯化铵和三乙醇胺混合分散均匀，回流并保持预设时间段，得到混合体系A； 在所述混合体系A中滴加环己烷和正硅酸乙酯的混合溶液，滴加完毕后，避光条件下反应，得到避光反应产物；对所述避光反应产物用乙醇和水交替洗涤、离心、真空干燥，得到处理后的产物； 将所述处理后的产物加入到溶剂中，回流预设时间后，用乙醇洗涤、离心、干燥，得到所述介孔二氧化硅纳米粒子；其中，回流过程中，对所述溶剂进行一次更换；所述溶剂为含有硝酸铵和无水乙醇混合溶液； 所述预合成的有机荧光单体的制备过程，具体如下： 将4-溴-1,8-萘酸酐、烯丙胺盐酸盐和三乙胺加入到装有无水乙醇的三口烧瓶中，得到反应混合物； 在氮气保护下，将反应混合物在80℃的温度条件下回流8h；然后自然冷却至室温，旋蒸除去溶剂，得到粗产物； 通过柱色谱对粗产物进行纯化，得到白色固体状的N-烯丙基-1,8-萘酰亚胺； 将白色固体状的N-烯丙基-1,8-萘酰亚胺、乙二胺和乙二醇单甲醚加入到三口烧瓶中，在氮气保护下，温度为110℃的条件下，反应6-8h；反应后自然冷却至室温，重结晶，得到所述预合成的有机荧光单体； 步骤3中，对所述介孔二氧化硅纳米粒子进行表面修饰，得到双键修饰的介孔二氧化硅纳米粒子的过程，具体如下： 将所述介孔二氧化硅纳米粒子和KH570分散在无水甲苯中，超声搅拌使其分散均匀，并在氮气保护条件下进行反应；反应结束后，离心收集产物，并用无水乙醇洗涤、离心、真空干燥，得到双键修饰的介孔二氧化硅纳米粒子； 步骤4中，将模板分子、功能单体和预合成的荧光单体混合均匀，然后加入所述双键修饰的介孔二氧化硅载体、交联剂及引发剂，引发聚合反应，得到基于介孔二氧化硅的分子印迹荧光聚合物的过程，具体如下： 将模板分子、功能单体和荧光单体溶于无水甲苯中，在氮气的保护下，机械搅拌6h，得到混合体系B； 在所述混合体系B中，加入双键修饰的介孔二氧化硅载体，超声分散后加入交联剂及引发剂，在氮气气氛下，进行聚合反应，得到基于介孔二氧化硅的分子印迹荧光聚合物。

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