常州高光半导体材料有限公司吴建获国家专利权
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龙图腾网获悉常州高光半导体材料有限公司申请的专利一种折叠屏用金属载具脱离母版工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114253067B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210055287.2，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种折叠屏用金属载具脱离母版工艺是由吴建;钱超;杨柯设计研发完成，并于2022-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种折叠屏用金属载具脱离母版工艺在说明书摘要公布了：本发明提出的一种折叠屏用金属载具脱离母版工艺，涉及折叠显示屏技术领域。所述的工艺步骤包括：在蚀刻有半刻线的母版表面覆盖一层连接膜层，从母版另一侧表面上对应所述的半刻线的位置二次蚀刻，使母版两侧版面贯通，并继续蚀刻至贯通宽度接近或等于所述的半刻线的宽度，退去覆盖的膜层后，则金属载具从母版上自然分离脱落。本发明在二次腹膜后借助连接膜层具有的粘连特性，实现了二次蚀刻贯通且使金属载具与母版不直接分离；借助上述工艺生产出的金属载具，边缘断面的光滑度高，无毛刺，尺寸精度能够控制在20μm以内，且良品率大幅提高。
本发明授权一种折叠屏用金属载具脱离母版工艺在权利要求书中公布了：1.一种折叠屏用金属载具脱离母版工艺，其特征在于，步骤包括： 在母版1的两侧表面上覆盖光阻膜层6，并对母版1的一侧或两侧表面上的预制半刻线3位置进行曝光、显影，以在所述表面的光阻膜层6上形成对应预制的半刻线3的图案； 对所述的母版1的一侧或两侧表面上的预制半刻线3位置蚀刻，形成半刻线3； 在母版1其中一侧蚀刻有半刻线3的表面覆盖上一层连接膜层7； 对母版1未覆盖连接膜层7的另一侧表面上对应半刻线3的位置进行进一步蚀刻，使母版1两侧版面贯通，并继续蚀刻至贯通宽度接近或等于所述半刻线3的宽度； 去除母版1表面的连接膜层7和光阻膜层6，使金属载具2从母版1上自然分离脱落； 其中，当前述步骤中的曝光、显影和蚀刻形成半刻线3仅在母版1的一侧表面上进行时，在所述进一步蚀刻之前，须对母版1未覆盖连接膜层7的另一侧表面上对应半刻线3的位置进行曝光、显影，以在该另一侧表面的光阻膜层6上形成所述对应预制的半刻线3的图案。
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