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东京毅力科创株式会社上山昇太获国家专利权

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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113721424B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110539836.9,技术领域涉及:G03F7/16;该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由上山昇太;丸山光昭;大薗启;中岛清次设计研发完成,并于2021-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。

基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了:本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够针对基板处理装置减小占地面积的技术。对于包含处理模块的基板处理装置,该处理模块设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件,其中,基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具有:容器载置部,其供用于收纳多个基板的容器载置;第1输送机构,其相对于容器交接基板。另外,在处理模块设有沿左右方向延伸的基板的输送路径和在该输送路径移动而相对于液处理组件输送基板的第2输送机构。另外,为了在第1输送机构和第2输送机构之间交接基板而载置基板的交接部在处理模块设于相对于输送路径的前侧且是相对于液处理组件的左侧。

本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,其是包含处理模块的基板处理装置,该处理模块设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件,其特征在于, 该基板处理装置具有: 基板输送模块,其相对于所述处理模块设于左右方向上的一侧,该基板输送模块具有供用于收纳多个所述基板的容器载置的容器载置部和相对于所述容器交接所述基板的第1输送机构; 所述基板的输送路径,其在所述处理模块沿左右方向延伸; 多个层段,其以所述液处理组件在相对于所述输送路径的前后方向上的一侧沿纵向成列的方式构成所述处理模块,并且分别包含该液处理组件; 第1处理组件,其在相对于所述输送路径的前后方向上的另一侧沿纵向设有多个,在所述液处理组件的处理之前或之后进行所述基板的处理; 第2输送机构,其在所述输送路径移动,而在所述液处理组件和所述第1处理组件之间输送所述基板;以及 交接部,其在所述处理模块设于相对于所述输送路径的前后方向上的一侧且是相对于所述液处理组件的列的左右方向上的一侧,为了在所述第1输送机构和所述第2输送机构之间交接所述基板而载置该基板。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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