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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利多个腔室压力传感器的校准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113465819B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110275286.4，技术领域涉及：G01L27/00；该发明授权多个腔室压力传感器的校准方法是由松田梨沙子;庄司庆太设计研发完成，并于2021-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本多个腔室压力传感器的校准方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种多个腔室压力传感器的校准方法。在基板处理系统的多个腔室压力传感器的校准方法中，基板处理系统具备多个腔室和多个腔室压力传感器，所述多个腔室压力传感器以分别测定多个腔室内的压力的方式设置。通过针对全部的腔室压力传感器将通过腔室压力传感器测定出的关于通过使预先设定的流量的气体流动到腔室而产生的腔室的压力变化率的测定值与将该流量的气体视作理想气体而计算出的腔室的压力变化率的计算值进行比较，来对全部的腔室压力传感器进行校准。在计算腔室的压力变化率的时，计算使用基板处理系统的多个气体流路的容积，通过使用气体流路的压力测定值并且将气体视作理想气体来预先计算出气体流路的容积。

本发明授权多个腔室压力传感器的校准方法在权利要求书中公布了：1.一种多个腔室压力传感器的校准方法，用于对基板处理系统的多个腔室压力传感器进行校准，其中， 所述基板处理系统具备： 多个腔室； 所述多个腔室压力传感器，所述多个腔室压力传感器以分别测定所述多个腔室内的压力的方式设置； 多个气体供给部，各所述气体供给部构成为向所述多个腔室中的对应的腔室的内部空间供给气体； 多个排气装置，所述多个排气装置经由多个排气流路而分别与所述多个腔室的内部空间连接；以及 多个第一气体流路，各第一气体流路将所述多个气体供给部中的对应的气体供给部与所述多个腔室中的对应的腔室连接， 所述多个腔室压力传感器的校准方法包括以下工序： 获取将第一容积与第二容积相加所得到的第三容积，所述第一容积为从所述多个第一气体流路中选择出的、与从所述多个气体供给部中选择出的气体供给部连接的第一气体流路的容积，所述第二容积为从所述多个腔室中选择出的、与选择出的所述第一气体流路连接的腔室的内部空间的容积； 使用从所述多个腔室压力传感器中选择出的、用于选择出的所述腔室的腔室压力传感器，来获取通过使预先设定的流量的气体从选择出的所述气体供给部经由选择出的所述第一气体流路流动到选择出的所述腔室的内部空间而产生的、选择出的所述腔室的内部空间的第一压力变化率； 使用在获取第一压力变化率的所述工序中流动的气体的所述流量和所述第三容积，将在获取第一压力变化率的所述工序中流动的气体视作理想气体，来计算通过在获取第一压力变化率的所述工序中流动的气体而产生的、选择出的所述腔室的内部空间的第二压力变化率；以及 对选择出的所述腔室压力传感器进行校准，以使所述第一压力变化率与所述第二压力变化率之差处于预先设定的范围内， 在所述多个腔室压力传感器的校准方法中，重复进行包括获取第三容积的所述工序、获取第一压力变化率的所述工序、获取第二压力变化率的所述工序以及对腔室压力传感器进行校准的所述工序的序列， 将所述多个腔室压力传感器依次选择作为选择出的所述腔室压力传感器并重复执行所述序列。

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