江苏天芯微半导体设备有限公司吴春龙获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏天芯微半导体设备有限公司申请的专利一种气体供给组件及半导体刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223665416U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422992167.2，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种气体供给组件及半导体刻蚀设备是由吴春龙设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种气体供给组件及半导体刻蚀设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种气体供给组件及半导体刻蚀设备，其中一种气体供给组件，包括第一喷淋盘，所述第一喷淋盘包括中心圆形区域、边缘环形区域以及位于中心圆形区域和边缘环形区域之间的过渡环形区域；所述第一喷淋盘设有第一气孔，所述第一气孔沿第一喷淋盘的厚度方向设置；所述第一喷淋盘只在过渡环形区域和或边缘环形区域设有第一气孔；第二喷淋盘，所述第二喷淋盘设有第二气孔，所述第二气孔沿第二喷淋盘的厚度方向设置，所述第一喷淋盘和第二喷淋盘上下堆叠设置；第一进气口，所述第一进气口的位于第一喷淋盘的正上方；第二进气口，所述第二进气口位于第一喷淋盘和第二喷淋盘之间且第二进气口位于第一喷淋盘和第二喷淋盘的边缘。本实用新型的气体供给组件可以提高等离子体分布的均匀性。
本实用新型一种气体供给组件及半导体刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种气体供给组件，其特征在于，包括： 第一喷淋盘，所述第一喷淋盘包括中心圆形区域、边缘环形区域以及位于中心圆形区域和边缘环形区域之间的过渡环形区域；所述第一喷淋盘设有第一气孔，所述第一气孔沿第一喷淋盘的厚度方向设置；所述第一喷淋盘只在过渡环形区域和或边缘环形区域设有第一气孔； 第二喷淋盘，所述第二喷淋盘设有第二气孔，所述第二气孔沿第二喷淋盘的厚度方向设置，所述第一喷淋盘和第二喷淋盘上下堆叠设置； 第一进气口，所述第一进气口的位于第一喷淋盘的正上方； 第二进气口，所述第二进气口位于第一喷淋盘和第二喷淋盘之间且第二进气口位于第一喷淋盘和第二喷淋盘的边缘。
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