季华实验室刘乔获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种附有检漏功能的电容薄膜真空计及其检漏方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120740851B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511276249.X，技术领域涉及：G01L21/00；该发明授权一种附有检漏功能的电容薄膜真空计及其检漏方法是由刘乔;彭冬梅;肖慧;侯少毅;杨振怀设计研发完成，并于2025-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种附有检漏功能的电容薄膜真空计及其检漏方法在说明书摘要公布了：本申请属于半导体加工的技术领域，公开了一种附有检漏功能的电容薄膜真空计及其检漏方法，该附有检漏功能的电容薄膜真空计包括：固定连接的上腔体和下腔体；下腔体的内部腔体设置有传感器本体，传感器本体设置有真空腔；上腔体设置有第一接口和第二接口，第一接口设置上腔体下端，且与下腔体固定连接，第二接口设置在上腔体的侧面；上腔体用于通过在第二接口处进行抽气以通过第一接口对下腔体进行抽气至真空，从而通过检测抽气过程中传感器本体的电容信号是否出现变化，检测真空腔是否存在漏气；通过检测抽气过程中电容信号是否出现变化，检测传感器本体的真空腔是否存在漏气，提高了附有检漏功能的电容薄膜真空计的密封性检测效率。
本发明授权一种附有检漏功能的电容薄膜真空计及其检漏方法在权利要求书中公布了：1.一种附有检漏功能的电容薄膜真空计，用于检测真空度，其特征在于，包括固定连接的上腔体1和下腔体2； 所述下腔体2的内部腔体设置有传感器本体3，所述传感器本体3设置有真空腔4； 所述上腔体1设置有两个接口，分别记为第一接口5和第二接口6，所述第一接口5设置在所述上腔体1下端，且与所述下腔体2固定连接，所述第二接口6设置在所述上腔体1的侧面；所述上腔体1用于在所述传感器本体3连接电容测量设备后，通过在所述第二接口6处进行抽气以通过所述第一接口5对所述下腔体2进行抽气至真空，从而通过检测抽气过程中所述电容测量设备显示的所述传感器本体3输出的电容信号是否出现变化，检测所述传感器本体3的真空腔4是否存在漏气； 所述上腔体1顶部设置有真空电极7；所述真空电极7与所述传感器本体3电性连接； 所述真空电极7用于输送所述传感器本体3输出的电容信号。
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