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龙图腾网获悉北京深势科技有限公司申请的专利一种发射光谱曲线的预测分析方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120183564B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510294708.0，技术领域涉及：G16C20/70；该发明授权一种发射光谱曲线的预测分析方法和装置是由赵国江;程正;赵子丰;高志锋;柯国霖;张林峰设计研发完成，并于2025-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种发射光谱曲线的预测分析方法和装置在说明书摘要公布了：本发明实施例涉及一种发射光谱曲线的预测分析方法和装置，所述方法包括：构建一个用于预测发射强度的发射强度预测模型；并基于一个通过数据采集构建的第一数据集训练发射强度预测模型；训练结束后从用户输入的预测分析任务中提取出任务类型和任务配置参数；若为第一类型则在温度不变但光照强度各异的条件下对指定分子的发射光谱预测曲线的三类曲线特征最大峰位点、半峰全宽和半峰波长范围进行分析；若为第二类型则在光照强度不变但温度各异的条件下对指定分子的三类曲线特征进行分析；若为第三类型则在温度和光照强度都不变的条件下对两个指定分子的三类曲线特征进行分析；本发明可以提高预测分析效率、提高数据分析便捷度。

本发明授权一种发射光谱曲线的预测分析方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种发射光谱曲线的预测分析方法，其特征在于，所述方法包括： 构建一个用于进行发射强度预测的发射强度预测模型；所述发射强度预测模型用于根据模型输入的分子结构M、温度x、光照强度y和波长z进行发射强度预测处理并输出对应的预测发射强度u； 通过数据采集构建一个用于模型训练的第一数据集；并根据所述第一数据集对所述发射强度预测模型进行模型训练； 模型训练结束后，接收用户输入的预测分析任务并从中提取出对应的任务类型和任务配置参数；所述预测分析任务包括所述任务类型和所述任务配置参数；所述任务类型包括第一、第二和第三类型；所述任务类型为第一类型时，对应的所述任务配置参数包括第一分子结构、第一设定温度、第一光照强度序列和第一波长序列；所述任务类型为第二类型时，对应的所述任务配置参数包括第二分子结构、第一设定光照强度、第一温度序列和第二波长序列；所述任务类型为第三类型时，对应的所述任务配置参数包括第三分子结构、第四分子结构、第二设定温度、第二设定光照强度和第三波长序列； 若所述任务类型为第一类型，则在多个温度保持一致但光照强度各异的设定条件下，基于所述发射强度预测模型和所述任务配置参数对一个指定分子的多个发射光谱曲线进行预测并对各预测曲线的最大峰位点、半峰全宽和半峰波长范围进行数据分析得到对应的第一分析数据表； 若所述任务类型为第二类型，则在多个光照强度保持一致但温度各异的设定条件下，基于所述发射强度预测模型和所述任务配置参数对一个指定分子的多个发射光谱曲线进行预测并对各预测曲线的最大峰位点、半峰全宽和半峰波长范围进行数据分析得到对应的第二分析数据表； 若所述任务类型为第三类型，则在温度和光照强度都保持一致的设定条件下，基于所述发射强度预测模型和所述任务配置参数对两个指定分子的发射光谱曲线进行分别预测并对两个预测曲线的最大峰位点、半峰全宽和半峰波长范围进行数据分析得到对应的第三分析数据表； 将本次得到的第一、第二或第三分析数据表向当前用户反馈。

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