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龙图腾网获悉常州维普半导体设备有限公司申请的专利一种掩模版条带配准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120147293B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510307796.3，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种掩模版条带配准方法是由陈士汉;徐东亮;尤亚刚设计研发完成，并于2025-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模版条带配准方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种掩模版条带配准方法，方法的步骤中含有：建立子条带配准参考点数组；对子条带上划分的Mask图像和掩模版设计文件生成图进行配准，依次按像素步进滑动Mask图像以覆盖掩模板设计文件生成图上对应大小的局部图像；每次滑动后对Mask图像和对应的局部图像的每个像素点求差，预设粗略阈值，当求差后的差值绝对值小于粗略阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求和得粗略差值和，并保存至对应的粗略配准结果矩阵A中；粗略配准结果矩阵A中，差值和为0的位置赋一标记值，相邻条带配准时，每个子条带使用前一个条带配准参考点数组中对应子条带的配准结果进行配准；它能够缩小配准范围并能够缩短配准时间，提高配准效率。

本发明授权一种掩模版条带配准方法在权利要求书中公布了：1.一种掩模版条带配准方法，其特征在于，方法的步骤中含有： S01：建立子条带配准参考点数组，初始化每个子条带的配准参考点位置； S02：对子条带上划分的Mask图像和掩模版设计文件生成图进行配准，依次按像素步进滑动Mask图像以覆盖掩模板设计文件生成图上对应大小的局部图像；其中，每次滑动后对Mask图像和对应的局部图像的每个像素点求差，预设粗略阈值，当求差后的差值绝对值小于粗略阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求和得粗略差值和，并保存至对应的粗略配准结果矩阵A中； S03：粗略配准结果矩阵A中，差值和为0的位置赋一标记值；当粗略配准结果矩阵A中没有标记值出现时，则将粗略配准结果矩阵A中的最小粗略差值和对应的位置作为配准参考点，当粗略配准结果矩阵A中存在标记值时，则将标记值对应的位置作为配准参考点; 步骤S02中还包括：预设精细阈值，当求差后的差值绝对值小于精细阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求和得精细差值和，并保存至对应的精细配准结果矩阵B中； 方法还包括以下步骤： S04：将邻近具有标记值的连通域作为一个区域标记位，统计子条带对应区域内符合要求的区域标记位个数：如果区域内存在多个区域标记位则认为标记此子条带位置的配准参考点位置不可被其他条带参考；如果区域内只有一个区域标记位，则需要将此区域标记位对应的位置保存至子条带配准参考点数组中； S05：将基于粗略配准结果矩阵A得到的配准参考点的位置对照精细配准结果矩阵B中的对应位置，并在该对应位置的区域范围中找寻精细配准结果矩阵B中的最小精细差值和，找寻完所有的最小精细差值和，得到对应的精细配准参考点位； S06:将步骤S05得到的精细配准参考点位按照步骤S04规定的参考要求进行参考，保存至子条带配准参考点数组中。

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