湖南德智新材料股份有限公司万强获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南德智新材料股份有限公司申请的专利涂层沉积的模拟仿真方法及装置、存储介质和电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120068705B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510105159.8，技术领域涉及：G06F30/28；该发明授权涂层沉积的模拟仿真方法及装置、存储介质和电子设备是由万强;刘毅;余盛杰;廖家豪;柴攀设计研发完成，并于2025-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本涂层沉积的模拟仿真方法及装置、存储介质和电子设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种涂层沉积的模拟仿真方法及装置、存储介质和电子设备，涉及了模拟仿真技术领域。具体包括：将网格化模型导入求解器；至少对求解器中的湍流模型、能量模型、辐射模型和组分模型进行设定，其中，组分模型的设定参数包括参与化学反应的分子和活性自由基的材料属性，材料属性包括利用第一性原理的密度泛函理论计算得到的MTS反应体系中的分子和活性自由基的特征长度和能量参数；利用初始化的方法获取求解器中的初始流场结果矩阵；根据初始流场结果矩阵设定结果收敛标准，对初始流场结果矩阵进行迭代计算。由于组分模型中的材料属性是通过优化计算得到的，因此，利用本申请的模拟仿真方法能够提高仿真计算的精确度和计算速率。
本发明授权涂层沉积的模拟仿真方法及装置、存储介质和电子设备在权利要求书中公布了：1.一种涂层沉积的模拟仿真方法，其特征在于，包括： 将网格化模型导入求解器，所述网格化模型包括具有反应腔室的反应炉以及装载到所述反应腔室的待仿真部件的经过网格化的模型； 至少对所述求解器中的湍流模型、能量模型、辐射模型和组分模型进行设定，其中，所述组分模型的设定参数包括参与化学反应的分子和活性自由基的材料属性，所述材料属性包括利用第一性原理的密度泛函理论计算得到的MTS反应体系中的所述分子和所述活性自由基的特征长度和能量参数； 利用初始化的方法获取所述求解器中的初始流场结果矩阵； 根据所述初始流场结果矩阵设定结果收敛标准，对所述初始流场结果矩阵进行迭代计算，得到所述待仿真部件在所述反应炉的沉积速率云图，所述沉积速率云图用于表征最后一次迭代得到的流场结果矩阵。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人湖南德智新材料股份有限公司，其通讯地址为：412000 湖南省株洲市天元区金马路156号湖南德智半导体产业园1号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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