山东科技大学戚惠颖获国家专利权
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龙图腾网获悉山东科技大学申请的专利固体氧化物电解池用复合型电解质缓冲层及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120048961B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510071052.6，技术领域涉及：H01M8/1016；该发明授权固体氧化物电解池用复合型电解质缓冲层及制备方法是由戚惠颖;薛庆忠;肖成柱;邱鹏;涂宝峰设计研发完成，并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本固体氧化物电解池用复合型电解质缓冲层及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种固体氧化物电解池用复合型电解质缓冲层及制备方法,涉及SOFC电解质技术领域，在固体氧化物电解池电解质层的表面依次溅射而成的电解质溅射致密层Ⅰ、电解质溅射致密层Ⅱ和阳极溅射层，电解质溅射致密层Ⅰ的厚度为10纳米～1微米，电解质溅射致密层Ⅱ的厚度为50纳米～500纳米，阳极溅射层的厚度为5纳米～30纳米。本发明通过磁控溅射法制得的复合型电解质纳米缓冲层，具有阻隔电子提高开路电压，增强离子导电性而降低欧姆电阻，增强与电极之间化学兼容性和热匹配性而提高长期稳定性等优势；解决了传统的低温电解质内漏电的问题，将开路电压提高至1.00V以上600℃，提高固体氧化物电解池输出功率和稳定性，扩大其应用范围。
本发明授权固体氧化物电解池用复合型电解质缓冲层及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种固体氧化物电解池用复合型电解质缓冲层，其特征在于，包括在固体氧化物电解池电解质层的表面依次溅射而成的电解质溅射致密层Ⅰ、电解质溅射致密层Ⅱ和阳极溅射层； 其中： 所述电解质溅射致密层Ⅰ，厚度为10纳米～1微米，用于离子导电、隔绝电子和提高开路电压； 所述电解质溅射致密层Ⅱ，厚度为50纳米～500纳米，用于增加电解质导电性、改善电解质与阳极界面化学兼容性； 所述阳极溅射层，厚度为5纳米～30纳米，用于传导电子、改善电解质与阳极热匹配性和界面连接性； 所述电解质溅射致密层Ⅰ的组成为氧化钪稳定的氧化锆、氧化钇稳定的氧化锆、氧化铈掺杂氧化锆、钇掺杂锆酸钡中的一种； 所述电解质溅射致密层Ⅱ的组成为氧化钆掺杂氧化铈、氧化钐掺杂氧化铈、钇掺杂铈酸钡中的一种； 所述阳极溅射层的组成为钴酸钡、铁酸钡、铁掺杂钴酸钡中的一种。
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