北京北方华创微电子装备有限公司李东芳获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺腔室以及排液方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119943703B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311458509.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权半导体工艺腔室以及排液方法是由李东芳;王伟;王喜健;茅兴飞;冯辉彩设计研发完成，并于2023-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺腔室以及排液方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种半导体工艺腔室以及排液方法。其中，半导体工艺腔室包括设置于腔室主体外壁上的第一控温主体；第一控温主体中具有用于供热交换液流动的控温通道，且控温通道具有多条第一管段和第二管段，第一管段的两端分别与高于其端部的管段连接，第二管段位于控温通道的最底端且水平延伸；第一控温主体中还具有辅助排液通道，辅助排液通道与多条第一管段和第二管段连通；半导体工艺腔室还包括设置于辅助排液通道中开关组件；开关组件用于在第一状态时阻挡液体在辅助排液通道中流动；开关组件用于在第二状态时使多条第一管段中的液体通过辅助排液通道流入第二管段中，从而避免积液在低温环境下凝固而导致多条第一管段损坏。
本发明授权半导体工艺腔室以及排液方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺腔室，其特征在于，包括： 腔室主体； 控温组件，包括设置于所述腔室主体外壁上的第一控温主体；所述第一控温主体中具有用于供热交换液流动的控温通道，且所述控温通道具有多条第一管段和第二管段，所述第一管段的两端分别与高于其端部的管段连接，所述第二管段位于所述控温通道的最底端且水平延伸；所述第一控温主体中还具有辅助排液通道，所述辅助排液通道与多条所述第一管段和所述第二管段连通； 开关组件，设置于所述辅助排液通道中；所述开关组件具有第一状态和第二状态；在所述第一状态时，所述开关组件用于阻挡液体在所述辅助排液通道中流动；在所述第二状态时，所述开关组件用于使多条所述第一管段中的液体通过所述辅助排液通道流入所述第二管段中。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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