北京北方华创微电子装备有限公司王泽获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体湿法清洗设备及其自清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119905420B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311412097.2，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权半导体湿法清洗设备及其自清洗方法是由王泽;王岩;章志兴设计研发完成，并于2023-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体湿法清洗设备及其自清洗方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种半导体湿法清洗设备及其自清洗方法，涉及半导体领域。一种半导体湿法清洗设备，包括：腔体、承载装置、防护罩和自清洗装置；所述承载装置和所述防护罩均设于所述腔体内，所述防护罩围设于所述承载装置的外侧，所述防护罩包括沿所述腔体的轴向排布且用于回收工艺液体的多层回收腔，相邻两个所述回收腔之间具有间隙；所述自清洗装置包括进液组件和喷淋组件，所述喷淋组件设于所述间隙中，所述进液组件与所述喷淋组件连接，用于向所述喷淋组件输送清洗介质，并通过所述喷淋组件向所述间隙喷淋所述清洗介质。本申请至少能够解决药液在回收层间隙处积存影响工艺过程，造成晶圆受损等问题。
本发明授权半导体湿法清洗设备及其自清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体湿法清洗设备，其特征在于，包括：腔体、承载装置300、防护罩200和自清洗装置100； 所述承载装置300和所述防护罩200均设于所述腔体内，所述防护罩200围设于所述承载装置300的外侧，所述防护罩200包括沿所述腔体的轴向排布且用于回收工艺液体的多层回收腔210，相邻两个所述回收腔210之间具有间隙220； 所述自清洗装置100包括进液组件110和喷淋组件120，所述喷淋组件120设于所述间隙220中，所述进液组件110与所述喷淋组件120连接，用于向所述喷淋组件120输送清洗介质，并通过所述喷淋组件120向所述间隙220喷淋所述清洗介质。
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