北京北方华创微电子装备有限公司李建旭获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺腔室及药液喷淋臂的位置检测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119725140B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311267028.7,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权半导体工艺腔室及药液喷淋臂的位置检测方法是由李建旭;谷彦龙;李星设计研发完成,并于2023-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺腔室及药液喷淋臂的位置检测方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种半导体工艺腔室及药液喷淋臂的位置检测方法,半导体工艺腔室包括腔体、药液喷淋臂和卡盘,药液喷淋臂和卡盘均设置在腔体中,药液喷淋臂用于向卡盘承载的晶圆上喷淋药液,半导体工艺腔室还包括测量结构和多个测距传感器,测量结构固定设置在药液喷淋臂上,且测量结构上具有多个测量面,多个测距传感器用于对各自朝向的测量面进行测距,以确定测量结构沿垂直于各个测量面方向的位置,进而确定测量结构的位置偏移量。本发明提供的半导体工艺腔室能够通过多个测距传感器对药液喷淋臂上的测量结构的测量面进行测距以确定测量结构的位置偏移量,从而在药液喷淋臂的垂直度发生变化时发现异常,保证晶圆的清洗效果以及晶圆的成品率。
本发明授权半导体工艺腔室及药液喷淋臂的位置检测方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体工艺腔室,所述半导体工艺腔室包括腔体、药液喷淋臂和卡盘,所述药液喷淋臂和所述卡盘均设置在所述腔体中,所述药液喷淋臂用于向所述卡盘承载的晶圆上喷淋药液,其特征在于,所述半导体工艺腔室还包括测量结构和多个测距传感器,所述测量结构固定设置在所述药液喷淋臂上,且所述测量结构上具有多个测量面,多个所述测距传感器用于对各自朝向的所述测量面进行测距,以确定所述测量结构沿垂直于各个所述测量面方向的位置,进而确定所述测量结构的位置偏移量。
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