松井新材料集团股份有限公司丁伟获国家专利权
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龙图腾网获悉松井新材料集团股份有限公司申请的专利一种光学镀膜拓印涂层及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119592114B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411589423.1，技术领域涉及：C09D5/00；该发明授权一种光学镀膜拓印涂层及其制备方法和应用是由丁伟;易军;黄巨波;赖安平;符绕生设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学镀膜拓印涂层及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光学镀膜拓印涂料及其制备方法和应用，属于涂料技术领域。本发明所述涂层包括处理剂1层、色漆涂料层、UV底漆层、光学镀膜层、处理剂2层、PU中漆层、烫金层、处理剂3层、UV面漆层；所述光学镀膜层的结构为五层，所述光学镀膜层的材料包括依次镀膜在UV底漆层上的二氧化硅、三氧化二锂、二氧化硅、三氧化二锂、二氧化硅金属叠加的镀膜层。涂层的制备方法包括：在基材表面依次喷涂处理剂1层、色漆涂料层、UV底漆层，进行光学镀膜，继续喷涂处理剂2层、PU中漆层，进行烫金处理，继续喷涂处理剂3层、UV面漆层。本发明通过不同组分之间的协同作用，提升了涂层附着力，同时具备良好金属质感和高质感视觉效果。
本发明授权一种光学镀膜拓印涂层及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种光学镀膜拓印涂层，其特征在于，所述涂层包括处理剂1层、色漆涂料层、UV底漆层、光学镀膜层、处理剂2层、PU中漆层、烫金层、处理剂3层、UV面漆层； 所述光学镀膜层的结构为五层，包括依次镀膜在UV底漆层上涂覆二氧化硅、三氧化二锂、二氧化硅、三氧化二锂、二氧化硅金属叠加的镀膜层； 其中，以质量百分数计，所述处理剂1层的制备原料包括：羟基丙烯酸树脂20%-30%，热塑丙烯酸树脂20%-30%，纤维素树脂5%-10%，色浆20%-30%，附着力促进剂2%-3%； 以质量百分数计，所述处理剂2层的制备原料包括：改性羟基丙烯酸聚合物20%-30%，热塑丙烯酸树脂2%-3%，流平剂0.1%-0.2%，硅烷偶联剂0.5%-1%； 以质量百分数计，所述处理剂3层的制备原料包括：羟基丙烯酸聚合物20%-30%，流平剂0.1%-0.2%。
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