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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119538532B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411571928.5，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品是由施智诚设计研发完成，并于2024-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品，涉及光刻仿真技术领域。该光刻胶仿真模型的评估方法包括：获取待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数与光学建模文件，光学建模文件中包括用于构建待评估光刻胶仿真模型的原始光学建模参数；根据光刻胶参数与光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型；将旋转光学建模参数输入至旋转光刻胶仿真模型中，得到旋转图形尺寸；将旋转图形尺寸与基准图形尺寸进行比较，得到尺寸差值，基准图形尺寸为将原始光学建模参数输入至待评估光刻胶仿真模型中得到的图形尺寸；根据尺寸差值，评估待评估光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象。

本发明授权光刻胶仿真模型的评估方法、设备、介质及产品在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶仿真模型的评估方法，其特征在于，包括： 获取待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数与光学建模文件，所述光学建模文件中包括用于构建所述待评估光刻胶仿真模型的原始光学建模参数； 根据所述光刻胶参数与所述光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，所述旋转光刻胶仿真模型为对所述原始光学建模参数旋转目标角度后的旋转光学建模参数进行光刻胶成像仿真的模型； 将所述旋转光学建模参数输入至所述旋转光刻胶仿真模型中，得到旋转图形尺寸； 将所述旋转图形尺寸与基准图形尺寸进行比较，得到尺寸差值，所述基准图形尺寸为将所述原始光学建模参数输入至所述待评估光刻胶仿真模型中得到的图形尺寸； 根据所述尺寸差值，评估所述待评估光刻胶仿真模型是否存在过拟合现象； 所述根据所述光刻胶参数与所述光学建模文件，构建旋转光刻胶仿真模型，包括： 对所述光学建模文件中的原始光学建模参数旋转至少一个目标角度，得到旋转目标角度后的旋转光学建模参数，所述旋转光学建模参数包括旋转测试版图、旋转量测数据以及旋转测试光源； 获取所述旋转测试光源对应的旋转交叉传感系数，所述旋转交叉传感系数用于衡量所述旋转测试版图对应的光信号在传输过程中的互相干扰程度； 对所述旋转测试版图、所述旋转量测数据以及所述旋转交叉传感系数进行光学仿真，构建旋转光学仿真模型； 根据所述待评估光刻胶仿真模型的光刻胶参数以及所述旋转光学仿真模型，构建旋转光刻胶仿真模型。

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