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龙图腾网获悉华中科技大学;湖北光谷实验室申请的专利一种基于轨道角动量的光刻缺陷检测方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119439642B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411636575.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于轨道角动量的光刻缺陷检测方法和系统是由刘世元;谷洪刚;梁昊阳;刘力设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于轨道角动量的光刻缺陷检测方法和系统在说明书摘要公布了：本申请属于光刻检测技术领域，具体公开一种基于轨道角动量的光刻缺陷检测方法和系统。通过本申请，使用OAM光束替代高斯光束照明，通过分析沿扫描路径产生的远场不对称信号来确定缺陷位置，由于在OAM光束照射下由缺陷引起的远场不对称信号更明显，最高可将信噪比提升5.57倍，显著提高缺陷检测的灵敏度；本申请使用OAM光束照明，扫描步长为样品图案在扫描方向上的最小周期的整数倍，综合这些特定扫描点的左右和上下两种不对称信息，确定缺陷的坐标位置，具有更多的可用信息，降低误检率。通过对含缺陷样品相邻扫描点对应的衍射图像之间进行差分处理，不需要与无缺陷样品做衍射图像差分，实际实施时位置误差较小，且对样品图案不需对称性，适用性更强。

本发明授权一种基于轨道角动量的光刻缺陷检测方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种基于轨道角动量的光刻缺陷检测方法，其特征在于，所述光刻缺陷检测方法应用于相干傅里叶散射检测系统，包括： S1.计算照明探针与含缺陷样品作用后的近场分布函数，所述照明探针为OAM光束，所述含缺陷样品为样品图案和缺陷图案的叠加； S2.通过远场传播模型，将近场分布函数传递到倒易空间，得到含缺陷样品的远场衍射强度分布函数； S3.对当前扫描点的远场衍射强度分布函数进行二阶差分运算，得到当前扫描点的二阶差分图像； S4.计算当前扫描点的二阶差分图像的左右不对称矩阵和上下不对称矩阵； S5.将当前扫描点的左右不对称矩阵的所有元素求和，得到当前扫描点的左右不对称信息，将当前扫描点的上下不对称矩阵的所有元素求和，得到当前扫描点的上下不对称信息； S6.将探针中心按照扫描步长移动至下一扫描点，所述扫描步长为样品图案在扫描方向上的最小周期的整数倍； S7.重复上述操作，直至得到扫描路径上所有扫描点的左右不对称信息和上下不对称信息； S8.综合所有扫描点的两种不对称信息，得到光刻缺陷检测结果； 所述近场分布函数具体如下： 其中，表示近场分布函数，表示具有螺旋相位的OAM光束，表示含缺陷样品，表示样品图案的复折射率，表示样品上缺陷的复折射率，表示样品坐标系下坐标，表示振幅，表示光源波长，表示样品平面到衍射平面的光束传播距离，表示螺旋方位角，表示OAM光束的拓扑荷数。

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