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龙图腾网获悉中国科学院西安光学精密机械研究所申请的专利一种大口径异形单晶硅衍射元件光刻胶涂布方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119414662B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411417132.4，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权一种大口径异形单晶硅衍射元件光刻胶涂布方法是由徐志晨;王凤彪;毛祥龙设计研发完成，并于2024-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种大口径异形单晶硅衍射元件光刻胶涂布方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种大口径异形单晶硅衍射元件光刻胶涂布方法，解决了现有涂布胶方法适用范围小、涂布质量差、胶层容易脱落的问题，具体包括：步骤1、表面状态筛选；步骤2、元件表面清洗；步骤3、增粘剂涂布；步骤4、光刻胶涂布；步骤5、质量检测。本发明在光刻胶涂布前先涂布增粘剂，增粘剂可作用机理主要是取代单晶硅基底表面氧化层携带的亲水Si‑HO基团，从而使单晶硅基底由亲水性变为疏水性，增加与光刻胶的粘附力，避免脱胶现象发生，提高了胶层的牢固性，延长其寿命。

本发明授权一种大口径异形单晶硅衍射元件光刻胶涂布方法在权利要求书中公布了：1.一种大口径异形单晶硅衍射元件光刻胶涂布方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、表面状态筛选； 筛选出表面状态合格的待涂胶元件；所述待涂胶元件为异形平板衍射元件，其口径D≥300mm； 步骤2、元件表面清洗； 将筛选出的待涂胶元件装入清洗工装内对其进行清洗； 步骤3、增粘剂涂布； 将清洗完成后的待涂胶元件装入涂胶工装，将待涂胶元件吸附于涂胶机对应位置，再将涂胶工装固定于涂胶机上，涂胶机的滴头将增粘剂以螺旋线的形式滴在待涂胶元件表面，涂胶机带动带有涂胶工装的待涂胶元件旋转，使得待涂胶元件表面各点均能够均匀分布增粘剂，然后对从涂胶机上拆卸涂胶工装，对带有涂胶工装的待涂胶元件进行第一次烘烤； 所述涂胶工装包括铝合金圆盘和多个卡扣；所述铝合金圆盘中部设有形状与待涂胶元件外形匹配且设有安装间隙的安装槽；所述安装槽的深度小于待涂胶元件的厚度，用于安装待涂胶元件；所述安装槽的槽底中部设有通孔，用于涂胶机对待涂胶元件进行吸附；所述安装间隙宽度为2mm～3mm，该安装间隙通过缓冲条填充；所述缓冲条的材质为聚四氟乙烯；所述多个卡扣绕安装槽边缘设置，每个卡扣的一端与铝合金圆盘的表面连接，其另一端用于卡装待涂胶元件；所述卡扣的材质为聚四氟乙烯； 步骤4、光刻胶涂布； 第一次烘烤后，将带有涂胶工装的待涂胶元件再次固定并吸附于涂胶机上，涂胶机向待涂胶元件上的增粘剂表面涂布光刻胶，然后对带有涂胶工装的待涂胶元件进行第二次烘烤； 步骤5、质量检测； 对完成第二次烘烤后的已涂胶元件进行光刻胶胶层质量检测，若其胶层质量不合格，则返回步骤2，直至胶层质量合格，完成光刻胶涂布方法。

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