华中科技大学刘力获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种基于压膜阻尼效应的高真空度测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119394505B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411540007.2，技术领域涉及：G01L21/00；该发明授权一种基于压膜阻尼效应的高真空度测量装置是由刘力;胡旭东;刘坤;范继;朱英楠;周泽兵设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于压膜阻尼效应的高真空度测量装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种基于压膜阻尼效应的高真空度测量装置，属于真空压力测量技术领域，其中，摆片的上下端中心处分别对称与一个低损耗挠性支撑结构的一端连接；两个低损耗挠性支撑结构用于抑制摆片的单摆效应，只保留摆片绕低损耗挠性支撑结构的转动运动；气壁装置位于摆片振动的方向，与摆片间预留有预设的间距，用于增大摆片振动时的压膜阻尼；起振装置用于对摆片施加驱动力，使摆片摆动，待测环境中残余气体的阻尼效应使摆片的振动逐渐衰减；角度探测器用于获取摆片振动的振幅衰减因子，结合压强与阻尼关系，获取待测环境的总压强。本申请可实现极高真空度的测量。
本发明授权一种基于压膜阻尼效应的高真空度测量装置在权利要求书中公布了：1.一种基于压膜阻尼效应的高真空度测量装置，其特征在于，包括：真空连接段、测量腔、摆片、低损耗挠性支撑结构、气壁装置、起振装置和角度探测器； 测量腔通过真空连接段与待测气体连通；摆片的上下端分别对称与一个低损耗挠性支撑结构的一端连接；两个低损耗挠性支撑结构的另一端分别与测量腔的上下内壁固定，用于抑制摆片的单摆效应，只保留摆片绕低损耗挠性支撑结构的转动运动；气壁装置竖向固定于测量腔中，位于摆片振动的方向，与摆片间预留有预设的间距，用于增大摆片振动时的压膜阻尼；起振装置安装于测量腔的内壁，用于对摆片施加驱动力，使摆片摆动，待测环境中残余气体的阻尼效应使摆片的振动逐渐衰减；角度探测器用于获取摆片振动的振幅衰减因子，结合压强与阻尼关系，获取待测环境的总压强。
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