合光光掩模科技(安徽)有限公司陈静获国家专利权
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龙图腾网获悉合光光掩模科技(安徽)有限公司申请的专利掩模板的制作方法及掩模板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119200314B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411595701.4，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权掩模板的制作方法及掩模板是由陈静设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模板的制作方法及掩模板在说明书摘要公布了：本公开提供了一种掩模板的制作方法及掩模板，制作方法包括以下步骤：提供堆叠结构；以硬掩模层为掩膜，去除部分遮光材料层，以将硬掩模层的图案转移至遮光材料层，得到第一中间体，图案在遮光材料层上形成凹槽；以第一目标去除时长去除硬掩模层，并能够延伸凹槽的深度以去除部分相移材料层，得到第二中间体；测量第二中间体中的遮光材料层的关键尺寸；根据关键尺寸、目标尺寸和预设配置关系，确定第二目标去除时长，预设配置关系用于表征去除时长和尺寸差值的对应关系，尺寸差值为遮光材料层的关键尺寸与相移材料层的目标尺寸之差；以第二目标去除时长继续去除第二中间体的部分相移材料层，得到掩模板。如此能够有效提高掩模板的尺寸精准度。
本发明授权掩模板的制作方法及掩模板在权利要求书中公布了：1.一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括： 提供堆叠结构，所述堆叠结构包括堆叠设置的透明基底材料层、相移材料层、遮光材料层和硬掩模层； 以所述硬掩模层为掩膜，去除部分所述遮光材料层，以将所述硬掩模层的图案转移至所述遮光材料层，得到第一中间体，所述图案在所述遮光材料层上形成凹槽； 以第一目标去除时长去除所述硬掩模层，并能够延伸所述凹槽的深度以去除部分所述相移材料层，得到第二中间体； 测量所述第二中间体中的遮光材料层的关键尺寸； 根据所述关键尺寸、目标尺寸和预设配置关系，确定第二目标去除时长，所述预设配置关系用于表征去除时长和尺寸差值的对应关系，所述尺寸差值为遮光材料层的关键尺寸与相移材料层的目标尺寸之差； 以所述第二目标去除时长继续去除所述第二中间体的部分相移材料层，得到掩模板。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人合光光掩模科技(安徽)有限公司，其通讯地址为：230601 安徽省合肥市经济技术开发区奔牛路100号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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