深圳晶源信息技术有限公司桑忠志获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119150775B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411314064.9，技术领域涉及：G06F30/337；该发明授权一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备是由桑忠志设计研发完成，并于2024-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备在说明书摘要公布了：本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备；所述方法包括：提供中间掩模版图；检测中间掩模版图的缺陷以生成数据库文件，数据库文件中包含与每一所检测缺陷对应的缺陷数据组；通过第一图形用户界面对数据库文件包含的缺陷数据组进行实时显示；接收在第一图形用户界面中对缺陷数据组的选择指令，将所选择的缺陷数据组记录到第二图形用户界面并实时显示；继续进行光学邻近效应的迭代修正，迭代过程中的每一轮修正结束后，根据新修正的中间掩模版图更新数据库文件。本方法为工作人员提供对之前定位过的缺陷信息进行快速重定位的功能，简化了用户在掩模版图修正过程中的操作步骤，提高了工作效率。
本发明授权一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备在权利要求书中公布了：1.一种掩模版图优化方法，其特征在于，所述方法包括： 提供初始掩模版图，对初始掩模版图进行光学邻近效应修正得到中间掩模版图； 检测中间掩模版图的缺陷以生成数据库文件，数据库文件中包含与每一所检测缺陷对应的缺陷数据组； 通过第一图形用户界面对数据库文件包含的缺陷数据组进行实时显示；接收在第一图形用户界面中对缺陷数据组的选择指令，将所选择的缺陷数据组记录到第二图形用户界面并实时显示； 继续进行光学邻近效应的迭代修正，迭代过程中的每一轮修正结束后，根据新修正的中间掩模版图更新数据库文件； 完成迭代修正后将最后一次迭代获得的中间掩模版图作为优化掩模版图输出。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳晶源信息技术有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉道8号英达利科技数码园C栋401A；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励