浙江师范大学江国灿获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江师范大学申请的专利用于稳定量子点的有机硅配体、有机硅修饰量子点及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117384627B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311180292.7，技术领域涉及：C09K11/66；该发明授权用于稳定量子点的有机硅配体、有机硅修饰量子点及其制备方法是由江国灿;李正全;王靳设计研发完成，并于2023-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于稳定量子点的有机硅配体、有机硅修饰量子点及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于稳定量子点的有机硅配体、有机硅修饰量子点及其制备方法，本发明提供的配体为一类能取代油胺油酸作为量子点配体的有机硅分子，用于封装量子点，有效提升量子点的抗光和热稳定性及加工性能。通过溶液浇注法制备量子点荧光薄膜，以低成本最终成功获得高稳定、高荧光效率和高透光率的有机硅封装的量子点荧光薄膜相比当前广泛使用的引入外源基质聚苯乙烯封装量子点的体系，本发明的有机硅封装量子点薄膜表现出了更好的抗紫外和热的稳定性、更高的荧光效率、散射区内有更好的透光率和更低的制膜成本。本发明成功实现了低成本地获得高性能的量子点荧光薄膜，这将助推量子点薄膜在发光和显示领域的实际应用。
本发明授权用于稳定量子点的有机硅配体、有机硅修饰量子点及其制备方法在权利要求书中公布了：1.全有机硅配体修饰胶体量子点的制备方法，包括步骤如下： 1将溴化铯、溴化铅和N,N-二甲基甲酰胺混合，超声分散直至完全溶解，得到混合液；溴化铯、溴化铅的质量比为0.03-0.05：0.06-0.08，溴化铯与N,N-二甲基甲酰胺的质量体积比为0.03-0.05：4-10，单位gmL； 2向混合液中加入有机硅配体A和有机硅配体B，继续搅拌至完全溶解，得到量子点前驱体； 3室温下将量子点前驱体注入强烈搅拌的甲苯中，得到全有机硅配体修饰胶体量子点；量子点前驱体与甲苯的体积比为0.4-0.8：5-15； 用于量子点表面的有机硅配体，包括有机硅配体A和有机硅配体B， 有机硅配体A结构如下A1、A2或A3所示： 、、 有机硅配体B结构式如下B1、B2、B3或B4所示： 、 、。
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