西安长峰机电研究所张勇科获国家专利权
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龙图腾网获悉西安长峰机电研究所申请的专利一种自粘接方舱用镶嵌件及使用方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117383095B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311381301.9,技术领域涉及:B65D90/00;该发明授权一种自粘接方舱用镶嵌件及使用方法是由张勇科;程卫兵;杜康;杨凯;史今朝;曹萌;赵征设计研发完成,并于2023-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种自粘接方舱用镶嵌件及使用方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种自粘接方舱用镶嵌件及其使用方法,包括镶嵌件本体、粘接剂和塑形消失膜;镶嵌件本体具有上沿和下沿,中心设有盲孔,上沿和下沿上设有多个溢胶孔;镶嵌件本体的四周设有塑形消失膜,塑形消失膜与镶嵌件本体之间为粘接剂空间,粘接剂空间内设有粘接剂;所述镶嵌件本体的上沿上部设有的第二上沿。通过将粘接剂替换为不流动固态粘接剂,并在使用时通过加热使塑形消失模融化,从而有效解决了舱顶使用的限制。相对于现有技术,在显著缩短随处安装时间的同时进一步增强了镶嵌件与方舱大板的连接强度,因而进一步提升了方舱的轻量化、机动化、维修保障能力。
本发明授权一种自粘接方舱用镶嵌件及使用方法在权利要求书中公布了:1.一种自粘接方舱用镶嵌件,其特征在于:包括镶嵌件本体2、粘接剂3和塑形消失膜4;镶嵌件本体2具有上沿和下沿,中心设有盲孔,上沿和下沿上设有多个溢胶孔;镶嵌件本体2的四周设有塑形消失膜4,塑形消失膜4与镶嵌件本体2之间为粘接剂空间,粘接剂空间内设有粘接剂3;所述镶嵌件本体2的上沿上部设有第二上沿;所述镶嵌件本体2的底部设有多个调整镶嵌件与方舱大板表面的高度差的空隙划刻垫块6;所述镶嵌件的使用方法包括: 根据方舱大板加工镶嵌件本体2,加工时:镶嵌件本体2的第二上沿至空隙划刻垫块6底部的高度为0.6T;其中:T为方舱大板夹心层厚度; 制作塑形消失膜,将粘接剂挤入塑形消失膜中,挤入量为粘接剂空间的1.2倍; 将镶嵌件本体2放入塑形消失膜中,粘接剂被挤压至粘接剂空间; 多余粘接剂由溢胶孔溢出,清除溢流的粘接剂采用保鲜膜密封,得到自粘接方舱用镶嵌件; 将自粘接方舱用镶嵌件置入方舱大板的镶嵌孔中,进行局部加热至塑形消失膜的融化温度使其融化,再继续加热至粘接剂的固化温度,保温使粘接剂固化; 所述镶嵌孔的尺寸为实际孔径+0.1mm,深度为0.6*T+t1-0.1mm,其中:t1为蒙皮的厚度。
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