北京维开科技有限公司杜鸿基获国家专利权
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龙图腾网获悉北京维开科技有限公司申请的专利一种船型工艺腔室，及带有该腔室的真空镀膜设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117026187B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311022901.6，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种船型工艺腔室，及带有该腔室的真空镀膜设备是由杜鸿基;陈亮设计研发完成，并于2023-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种船型工艺腔室，及带有该腔室的真空镀膜设备在说明书摘要公布了：本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种用于真空镀膜设备的船型工艺腔室及带有该腔室的真空镀膜设备，船型工艺腔室包括顶面、底面，垂直于顶面和底面的第一侧面，垂直于顶面的第二侧面，连接第二侧面和底面的斜面，斜面上设计有安装离子源机构的安装口径，通过该口径安装于该斜面上离子源机构安装于该斜面上；离子源安装方式是半嵌入形式，离子源的控制线，电源线，工艺气管，冷却水水管设于船型工艺腔室的外部，即离子源露在空气中的部分。本发明提高了不同批次的设备所镀产品镀膜质量一致性，减少工艺腔室在工艺时其内部的放气源，保证工艺腔室镀膜真空及镀膜产品膜层的纯净度。
本发明授权一种船型工艺腔室，及带有该腔室的真空镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种用于真空镀膜设备的船型工艺腔室，其特征在于，所述船型工艺腔室包括顶面、底面、垂直于顶面和底面的第一侧面、垂直于顶面的第二侧面、连接第二侧面和底面的斜面，所述斜面上设计有安装离子源机构的安装口径，通过所述安装口径将离子源机构安装于该斜面上；所述离子源的安装方式是半嵌入形式，离子源的控制线，电源线，工艺气管，冷却水水管设于船型工艺腔室的外部，即离子源露在空气中的部分； 所述船型工艺腔室中设有工件盘，离子源中心射出的射线照射位置为以工件盘圆心为始点的工件盘半径的23处; 斜面与地面的角度，以及离子源与工件盘的距离为固定值，具体为：斜面与底面之间的夹角为120°，离子源表面中心点到工件盘以圆心为始点23处两点的距离为225mm，离子源表面中心点到工件盘以圆心为始点的23半径处，两点间的直线和工件盘水平方向之间的夹角为30°，且离子源在斜面上的安装位置为：从底边斜面的起始点到斜面中心的距离160mm处。
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