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龙图腾网获悉深圳市圭华智能科技有限公司申请的专利一种MEMS光学级空腔盖板加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116812858B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310675002.X，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种MEMS光学级空腔盖板加工方法是由方艳阳;张立;周建红设计研发完成，并于2023-06-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种MEMS光学级空腔盖板加工方法在说明书摘要公布了：本发明涉及激光诱导蚀刻技术领域，特别涉及一种MEMS光学级空腔盖板加工方法。其包括以下步骤：S1.选取所需尺寸的光学盖板，将表面清洗干净；S2.采用PVD工艺在光学盖板表面沉积金属膜；S3.在光学盖板的一侧单面涂覆负性光刻胶；S4.将含有图样的盖板覆盖在光刻胶表面进行曝光、显影，露出图形化的金属层，S5.蚀刻金属膜制作掩膜板；S6.将高功率红外激光调制为空间结构光，辐照掩膜板表面，同时在Z轴方向上升降；S7.采用湿法蚀刻将改性部分蚀刻至所需深度，通过控制辐照改性区深度及调整蚀刻时间以控制蚀刻深度；S8.除去光刻胶，除去金属膜，获得光学级空腔盖板。此方法采用设备成本低，加工速度快，尺寸形貌准确，型腔完全透明，工艺安全环保。

本发明授权一种MEMS光学级空腔盖板加工方法在权利要求书中公布了：1.一种MEMS光学级空腔盖板加工方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.选取所需尺寸的光学盖板，将表面清洗干净； S2.采用PVD工艺在光学盖板表面沉积金属膜； S3.在光学盖板的一侧单面涂覆负性光刻胶； S4.将含有图样的盖板覆盖在光刻胶表面进行曝光、显影，露出图形化的金属层， S5.蚀刻金属膜制作掩膜板； S6.将高功率红外激光调制为空间结构光，辐照掩膜板表面，同时在Z轴方向上升降，以使辐照后的光学盖板在Z轴方向上发生连续性区域性改性； S7.采用湿法蚀刻将改性部分蚀刻至所需深度，通过控制辐照改性区深度及调整蚀刻时间以控制蚀刻深度； S8.使用除胶剂除去光刻胶，使用湿法蚀刻除去金属膜，即获得光学级空腔盖板； 所述步骤S6中，使用高功率红外结构光，其调制方法及过程包括但不限于： 高功率激光器发射内部平顶光激光光束，经反射镜反射后改变加工的方向，再通过复眼透镜调制为空间结构光； 所述步骤S6中，所述空间结构光由平顶光激光光束经过复眼透镜后发生衍射效应形成，空间结构光在工作距离位置汇聚形成聚焦平面，沿Z轴方向辐照掩膜板表面时，聚焦平面从光学盖板表面向下移动，以使改性区域逐渐加深至所需深度； 将3000~5000瓦高功率红外激光调制为空间结构光45，辐照MASK表面，同时在Z轴方向上以3~50ums的速度升降至略深于所需腔体深度；高功率激光器功率范围为3000~5000W，波段为1064±10nm；复眼透镜工作距离WD为20~30mm，焦深为3~50um，厚度≧100um，上下表面镀红外增透膜。

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