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龙图腾网获悉郑州航空工业管理学院申请的专利一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116752110B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310740183.X，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法是由黄亚博;王旭磊;孙逸翔;高阳;黄宝柱;郭晓琴;张君豪设计研发完成，并于2023-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于金刚石材料的制备技术领域，公开一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法。步骤为：S1、制备光学级多晶金刚石膜，随后对其切割、研磨、抛光、清洗；S2、在步骤S1制备的金刚石膜表面ICP刻蚀光学减反微结构层，刻蚀结束后清洗、烘干，放入真空皿备用；S3、采用磁控溅射技术，在步骤S2制备的金刚石膜的光学减反微结构层表面镀制稀土氧化增透膜，并依据步骤S2制备的带有光学减反微结构层的金刚石膜的折射率和光学增透膜理论设定镀制的稀土氧化增透膜的厚度；所述磁控溅射技术为预镀制和变速镀制相结合的方式。本发明制备的金刚石材料红外透过率高、热稳定性优异，特别适用于红外窗口等领域的应用需求。

本发明授权一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法，其特征在于，制备步骤如下： S1、制备光学级多晶金刚石膜，随后对其切割、研磨、抛光、清洗； S2、在步骤S1制备的金刚石膜表面ICP刻蚀光学减反微结构层，刻蚀结束后清洗、烘干，放入真空皿备用； S3、采用磁控溅射技术，在步骤S2制备的金刚石膜的光学减反微结构层表面镀制稀土氧化增透膜，获得用于光学窗口的金刚石材料；所述磁控溅射技术为预镀制和变速镀制相结合的方式；所述预镀制的过程为：靶溅射功率100-200W，氧气通量1-3sccm，Ar气通量为35-50sccm，溅射时间10-30min；随后关闭靶挡板，等待1-2min，开始变速镀制；所述变速镀制的过程为：提高靶溅射功率至150-180W，打开靶挡板，溅射时间20-25min，随后关闭靶挡板，降低靶溅射功率至120-150W后，再打开靶挡板，直至溅射结束；整个预镀制过程和变速镀制过程中，氧气通量和Ar气通量始终保持一致。

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