中国科学院上海高等研究院方文程获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海高等研究院申请的专利离子注入器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116723626B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310629905.4，技术领域涉及：H05H9/00；该发明授权离子注入器是由方文程;郭玉森;陆羿行;赵振堂设计研发完成，并于2023-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本离子注入器在说明书摘要公布了：本发明涉及一种离子注入器，包括至少一个离子源以及沿束流传输方向依次设置的射频四极加速器和交叉指磁型漂移管直线加速器，所述离子源和所述射频四极加速器之间设置有低能传输线，所述射频四极加速器和交叉指磁型漂移管直线加速器之间设置有匹配段，所述交叉指磁型漂移管直线加速器包括四个腔体，任意相邻的两个腔体之间均设置有聚焦段。本发明的离子注入器采用更高的工作频率，通过优化的束流动力学设计和结构设计，实现了离子注入器的小型化和高效率。
本发明授权离子注入器在权利要求书中公布了：1.一种离子注入器，其特征在于，包括至少一个离子源以及沿束流传输方向依次设置的射频四极加速器和交叉指磁型漂移管直线加速器，所述离子源和所述射频四极加速器之间设置有低能传输线，所述射频四极加速器和交叉指磁型漂移管直线加速器之间设置有匹配段，所述交叉指磁型漂移管直线加速器包括四个腔体，每个所述腔体的相位和功率均设置为独立可调，任意相邻的两个腔体之间均设置有聚焦段。
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