中国空间技术研究院牛虎获国家专利权
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龙图腾网获悉中国空间技术研究院申请的专利一种宇航级Parylene-C基薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116641026B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310479832.5，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权一种宇航级Parylene-C基薄膜及其制备方法是由牛虎;李岩;牛诺婕;刘泊天;刘超;汪洋;高鸿;邢焰设计研发完成，并于2023-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种宇航级Parylene-C基薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种宇航级Parylene‑C基薄膜及其制备方法，属于航空航天材料技术领域。宇航级Parylene‑C基薄膜包括依次成型于待镀器件上的偶联剂层、Parylene‑C主体膜层、胶黏剂层和聚酰亚胺保护膜层。通过使用偶联剂，可使Parylene‑C更加牢固沉积在待镀器件表面；通过使用胶黏剂，可使聚酰亚胺牢固的粘结在在Parylene‑C薄膜表面；通过对Parylene‑C沉积工艺参数的优化，精准的控制了Parylene‑C主体膜层的厚度；通过对聚酰亚胺沉积工艺参数的优化，精准的控制了聚酰亚胺保护膜层的厚度；通过聚酰亚胺保护膜层对Parylene‑C主体膜层的涂覆，大幅提高了Parylene‑C基薄膜的抗辐照性能。本发明制备获得的一种宇航级Parylene‑C基薄膜材料，解决了现有Parylene系列薄膜厚度误差大、附着性能差以及抗辐照能力弱等问题。
本发明授权一种宇航级Parylene-C基薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种宇航级Parylene-C基薄膜，其特征在于，包括依次成型于待镀器件上的偶联剂层、Parylene-C主体膜层、胶黏剂层和聚酰亚胺保护膜层，所述Parylene-C主体膜层厚度为10～30μm，聚酰亚胺保护膜层厚度为2～5μm；所述偶联剂层为硅烷偶联剂制得；所述胶黏剂层由硅橡胶类胶黏剂制得。
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